一种超表面和成像装置制造方法及图纸

本申请实施例公开了一种超表面和成像装置。本申请提供的超表面有助于提升光束的透过率，并提升了对光束进行相位调制的范围和自由度。本申请提供的成像装置结构更简单，可以有效地对像差进行校正，并具有更高效的光束汇聚能力和更好的成像性能。其中，超表面包括：基底、N个第一介质柱、N个第二介质柱和覆盖层，N个第一介质柱设置在基底的上表面，N个第二介质柱分别位于N个第一介质柱上，覆盖层包覆N个第一介质柱和N个第二介质柱，每个第一介质柱的折射率大于或等于基底的折射率，相互接触的第一介质柱和第二介质柱中第一介质柱的折射率大于第二介质柱的折射率，覆盖层的折射率大于或等于1且小于或等于每个第二介质柱的折射率。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及光成像领域，尤其涉及一种超表面和成像装置。

技术介绍

1、热红外成像技术是一种通过获取目标物体热辐射强度，并将信息并将其转换为人眼可见图像的技术。热红外成像技术应用广泛，长久以来都是全球范围内十分重视的技术，该成像技术具有隐蔽性与抗干扰能力强和全天候工作的优势，因此广泛引用于夜间侦查、红外制导、导弹预警等军事领域和安防监控、车载夜视、工业检测和防疫检测等民用领域，市场价值巨大。

2、热红外成像设备主要由光学镜头和红外探测器构成，其中，光学镜头的结构中可以设置超表面(metasurface)，解决传统光学镜头体积大、价格昂贵、集成度低的难题。然而，目前的超表面对光束相位进行调制的能力有限，并且超表面对光束的透过率也不够理想。

技术实现思路

1、本申请实施例提供了一种超表面和成像装置。其中，本申请提供的超表面有助于提升光束的透过率，并提升了对光束进行相位调制的范围和自由度。本申请提供的成像装置结构更简单，可以有效地对像差进行校正，并具有更高效的光束汇聚能力和更好的成像性能。

2、本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种超表面，其特征在于，包括：基底、N个第一介质柱、N个第二介质柱和覆盖层，所述N为大于1的整数，所述N个第一介质柱设置在所述基底的上表面，所述N个第二介质柱分别位于所述N个第一介质柱上，所述覆盖层包覆所述N个第一介质柱和所述N个第二介质柱，每个所述第一介质柱的折射率大于或等于所述基底的折射率，相互接触的第一介质柱和第二介质柱中第一介质柱的折射率大于第二介质柱的折射率，所述覆盖层的折射率大于或等于1且小于或等于每个所述第二介质柱的折射率。

2.根据权利要求1所述的超表面，其特征在于，相互接触的第一介质柱和第二介质柱的横截面是对齐的，所述横截面与所述基底的上表面平行。...

【技术特征摘要】

1.一种超表面，其特征在于，包括：基底、n个第一介质柱、n个第二介质柱和覆盖层，所述n为大于1的整数，所述n个第一介质柱设置在所述基底的上表面，所述n个第二介质柱分别位于所述n个第一介质柱上，所述覆盖层包覆所述n个第一介质柱和所述n个第二介质柱，每个所述第一介质柱的折射率大于或等于所述基底的折射率，相互接触的第一介质柱和第二介质柱中第一介质柱的折射率大于第二介质柱的折射率，所述覆盖层的折射率大于或等于1且小于或等于每个所述第二介质柱的折射率。

2.根据权利要求1所述的超表面，其特征在于，相互接触的第一介质柱和第二介质柱的横截面是对齐的，所述横截面与所述基底的上表面平行。

3.根据权利要求2所述的超表面，其特征在于，相互接触的第一介质柱和第二介质柱的横截面满足四次折叠对称。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的超表面，其特征在于，至少一个所述第一介质柱是空心柱，至少一个所述第二介质柱是空心柱；

5.根据权利要求1至4中任一项所述的超表面，其特征在于，相互接触的第一介质柱和第二介质柱中第一介质柱的高度大于第二介质柱的高度。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的超表面，其特征在于，所述基底的下表面镀有增透膜。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的超表面，其特征在于，所述基底采用的材料包括锗材料，每个所述第一介质柱采用的材料包括锗材料，每个所述第二介质柱采用的材料包括锗，硫化锌和氟化镱中的至少一种。

8.一种成像装置，其特征在于，包括：第一超表面和透镜，所述第一超表面为如权利要求1至7中任一项所述的超表面，所述第一超表面中第一介质柱和第二介质柱相对于基底远离所述透镜；

9.根据权利要求8所述的成像装置，其特征在于，所述成像装置还包括第二超表面，所述第二超表面为如权利要求1至7中任一项所述的超表面，所述透镜位于所述第一超表面与所述第二超表面之间，所述第二超表面中第一介质柱和第二介质柱相对于基底靠近所述透镜，所述第二超表面与所述透镜之间的距离等于所述透镜的有效焦距；

1...

【专利技术属性】
技术研发人员：王玉西，胡铁，王升麒，杨振宇，黄钊，郭睿，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：