【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及能够在容器的小的横向开口处使用的填充水平测量设备或填充水平计。
技术介绍
1、在自动化技术中,尤其是对于过程自动化,通常应用现场设备,其用于记录不同的测量变量。测量变量例如能够是过程现场中介质的填充水平、流量、压力、温度、ph值、氧化还原电势、电导率或电介质值。为了记录对应的测量值,现场设备包括基于合适的测量原理的合适的传感器。大量不同的现场设备类型由公司的endress+hauser集团公司制造和销售。
2、为了容器中的填充物质的填充水平测量,基于雷达的测量方法已经证明自身,因为它们是稳健的并且通过低维护来区分。基于雷达的测量方法的中心优点是它们实际上连续测量填充水平的能力。在本专利技术的上下文中,术语“雷达”是指频率在0.03 ghz和300 ghz之间的雷达信号。执行填充水平测量的通用频带位于2ghz、26ghz、79ghz和120 ghz。在这种情况下,两个建立的测量原理是脉冲行进时间原理(也称为“脉冲雷达”)和fmcw原理(“调频连续波”)。根据脉冲行进时间方法工作的填充水平测量设备例如在offenl
...【技术保护点】
1.一种用于测量容器(3)中的填充物质(2)的填充水平(L)的基于雷达的填充水平测量设备,包括:
2.根据权利要求1所述的填充水平测量设备,其中,所述天线装置(12)的被设定尺寸使得其能够被引导通过具有最大dn50的直径的容器开口(31)。
3.根据权利要求1或2所述的填充水平测量设备,其中,所述雷达集束装置(122)和所述主辐射器(123)的所述孔(ao、ap)在与所述管轴线(A)平行时比在与所述管轴线(A)正交时大至少1.5倍,尤其是大3倍。
4.根据前述权利要求中至少一项所述的填充水平测量设备,其中,所述雷达集束装置(122)
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于测量容器(3)中的填充物质(2)的填充水平(l)的基于雷达的填充水平测量设备,包括:
2.根据权利要求1所述的填充水平测量设备,其中,所述天线装置(12)的被设定尺寸使得其能够被引导通过具有最大dn50的直径的容器开口(31)。
3.根据权利要求1或2所述的填充水平测量设备,其中,所述雷达集束装置(122)和所述主辐射器(123)的所述孔(ao、ap)在与所述管轴线(a)平行时比在与所述管轴线(a)正交时大至少1.5倍,尤其是大3倍。
4.根据前述权利要求中至少一项所述的填充水平测量设备,其中,所述雷达集束装置(122)和所述主辐射器(123)彼此适配,使得所述主辐射器(123)利用所述雷达信号(shf)以-10db照射所述雷达集束装置(122)的外轮廓。
5.根据前述权利要求中至少一项所述的填充水平测量设备,其中,所述发射/接收单元(11)被设计为产生具有至少60ghz频率,特别是至少120 g...
【专利技术属性】
技术研发人员:菲利普·休格勒,温弗里德·迈尔,
申请(专利权)人:恩德斯豪斯欧洲两合公司,
类型:发明
国别省市:
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