【技术实现步骤摘要】
本技术涉及除水,具体地涉及一种退膜液除膜渣的装置。
技术介绍
1、内层工序半成品通过曝光机光源反应的干膜/湿膜层阻光图形,是在设定传送速度、温度及压力的碳酸钠显影溶液中冲洗溶解,露出制作图形,然后在水平线各段水洗运行中冲洗干净;而已曝过光的干膜/湿膜层,干膜/湿膜已发生光聚合反应,干膜/湿膜层与铜面产生较强的结合力无法被显影溶液冲洗掉,最终保留下来形成抗蚀层,通过退膜后得到客户设计所需要的初步内层电路图形。
2、des线退膜段主要是通过浓度为5%-9%氢氧化钠溶液,在一定温度55±5℃条件下,对干膜/湿膜进行溶解,达到退膜效果。再经过几段水洗与烘干,实现最后的内层线路。
3、退膜段退膜液中会有冲洗下来的湿膜/干膜残留物在溶液中,会导致喷嘴易堵塞,以及溶液浓度变低,药水使用寿命较短,保养周期频繁。
技术实现思路
1、针对现有技术中的技术问题,退膜液中存在膜渣,会导致喷嘴易堵塞的技术问题,本技术提供了一种退膜液除膜渣的装置,具有可去除退膜液中膜渣的优点。
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...【技术保护点】
1.一种退膜液除膜渣的装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的退膜液除膜渣的装置,其特征在于,
3.根据权利要求2所述的退膜液除膜渣的装置,其特征在于,
4.根据权利要求3所述的退膜液除膜渣的装置,其特征在于,
5.根据权利要求4所述的退膜液除膜渣的装置,其特征在于,
6.根据权利要求5所述的退膜液除膜渣的装置,其特征在于,
7.根据权利要求6所述的退膜液除膜渣的装置,其特征在于,
8.根据权利要求7所述的退膜液除膜渣的装置,其特征在于,
【技术特征摘要】
1.一种退膜液除膜渣的装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的退膜液除膜渣的装置,其特征在于,
3.根据权利要求2所述的退膜液除膜渣的装置,其特征在于,
4.根据权利要求3所述的退膜液除膜渣的装置,其特征在于,
【专利技术属性】
技术研发人员:朱康健,王亭亭,陈嘉毫,
申请(专利权)人:四川省华兴宇电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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