用于极紫外线反射型光罩的薄膜及其制造方法技术

一种用于极紫外线反射型光罩的薄膜及其制造方法，用于极紫外线(extreme ultraviolet,EUV)反射型光罩的薄膜包括附接至框架的膜。此膜包括多个纳米管束，各纳米管束包括多个由第一纳米管材料制成并结合在一起的多壁纳米管，以及在多个纳米管束上的第二纳米管材料的多个包裹层，第二纳米管材料不同于第一纳米管材料。此薄膜有利地具有良好的EUV透光率，增加了在EUV曝光环境下的强度，从而延长了寿命。

【技术实现步骤摘要】

本揭露是有关一种薄膜及其制造方法，尤其是一种用于极紫外线反射型光罩的薄膜及其制造方法。

技术介绍

1、薄膜是一种拉伸在框架上的薄透明膜，此框架粘在光罩的一侧以保护光罩免于受损坏、灰尘和湿气。在极紫外线(extreme ultraviolet,euv)光刻中，通常需要具有高euv透射率、高机械强度、高抗颗粒攻击性和长寿命的薄膜。

技术实现思路

1、根据本揭露的一些实施例，一种用于极紫外线反射型光罩的薄膜的制造方法，包括：以第一纳米管材料形成多个纳米管；将纳米管结合成多个纳米管束；以不同于第一纳米管材料的第二纳米管材料形成多个同轴包裹层以包围各纳米管束；及将被同轴包裹层包裹的纳米管束附接到薄膜框架。

2、根据本揭露的一些实施例，一种用于极紫外线反射型光罩的薄膜的制造方法，包括：以第一纳米管材料形成多个纳米管；将纳米管结合成多个纳米管束，各纳米管束中包括至少两个第一纳米管材料的纳米管；以不同于第一纳米管材料的第二纳米管材料形成多个同轴第一包裹层以包裹各纳米管束；将第二纳米管材料填充至纳米管束内的纳米管的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于极紫外线反射型光罩的薄膜的制造方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括：当所述多个纳米管的内直径大于2纳米，将该第二纳米管材料的至少一纳米管层填充至所述多个纳米管束内的所述多个纳米管的最内壁中。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中该第一纳米管材料包括碳基材料，并且其中该第二纳米管材料选自由BN、hBN、SiC、MoS2、MoSe2、WS2、WSe2、SnS2、SnS、ZrO2、ZrO及TiO2所组成的群组。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中该第一纳米管材料和该第二纳米管材料中任一种的...

【技术特征摘要】

1.一种用于极紫外线反射型光罩的薄膜的制造方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括：当所述多个纳米管的内直径大于2纳米，将该第二纳米管材料的至少一纳米管层填充至所述多个纳米管束内的所述多个纳米管的最内壁中。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中该第一纳米管材料包括碳基材料，并且其中该第二纳米管材料选自由bn、hbn、sic、mos2、mose2、ws2、wse2、sns2、sns、zro2、zro及tio2所组成的群组。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中该第一纳米管材料和该第二纳米管材料中任一种的含量大于其总重量的10％。

5.一种用于极紫外线反射型光罩的薄膜的制造方法，其特征在于，包括：

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭家彤，许倍诚，李信昌，林进祥，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：