掩模制造技术

技术编号:41882068 阅读:15 留言:0更新日期:2024-07-02 00:36
本公开提供了一种掩模,其包括:掩模框架,具有开口;开口掩模,设置在掩模框架上,开口掩模具有第一开口,在平面图中观察的情况下,第一开口设置在开口中;以及单元掩模,设置在开口掩模上并且具有第二开口,第二开口小于第一开口。

【技术实现步骤摘要】

本文中描述的本公开的实施方式涉及掩模及其制造方法。


技术介绍

1、通常,向用户提供图像的诸如智能电话、数码相机、膝上型计算机、导航装置或智能电视的电子装置包括显示图像的显示装置。显示装置生成图像并通过显示屏幕将生成的图像提供给用户。

2、显示装置包括生成光的多个发光元件。发光元件中的每个包括阳极、发光层和阴极。当空穴和电子可以分别从阳极和阴极注入到发光层时,可以形成激子。激子跃迁到基态,因此发光元件发光。

3、在制造发光元件的情况下,可以将掩模设置在衬底上,并且可以通过掩模的开口将有机材料提供到衬底上以形成发光层。阴极用作公共层,并且多个发光元件一起共享阴极。

4、在形成阴极的情况下,除了用于形成发光层的掩模之外,还可以使用附加的掩模。在形成阴极的情况下,可以将其中可限定有与用于沉积阴极的区域对应的开口的掩模设置在衬底上,并且可以通过掩模的开口向衬底提供用于形成阴极的导电材料。


技术实现思路

1、本公开的实施方式提供了能够通过沉积公共层来减小衬底的非显示区域的掩模及其制造方本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种掩模,包括:

2.根据权利要求1所述的掩模,其中,所述至少一个第二开口在所述平面图中与所述至少一个第一开口重叠。

3.根据权利要求1所述的掩模,其中,所述开口掩模和所述至少一个单元掩模包括相同的材料。

4.根据权利要求3所述的掩模,其中,所述开口掩模和所述至少一个单元掩模包括因瓦合金、不锈钢或其组合。

5.根据权利要求1所述的掩模,其中,

6.根据权利要求5所述的掩模,其中,

7.根据权利要求1所述的掩模,其中,所述至少一个单元掩模的与所述开口掩模重叠的部分的面积小于所述至少一个单元掩模的与所述至少一个第一开...

【技术特征摘要】

1.一种掩模,包括:

2.根据权利要求1所述的掩模,其中,所述至少一个第二开口在所述平面图中与所述至少一个第一开口重叠。

3.根据权利要求1所述的掩模,其中,所述开口掩模和所述至少一个单元掩模包括相同的材料。

4.根据权利要求3所述的掩模,其中,所述开口掩模和所述至少一个单元掩模包括因瓦合金、不锈钢或其组合。

5.根据权利要求1所述的掩模,其中,

6.根据权利要求5所述的掩模,其中,

7.根据权利要求1所述的掩模,其中,所述至少一个单元掩模的与所述开口掩模重叠的部分的面积小于所述至少一个单元掩模的与所述至少一个第一开口重叠的部分的面积。

8.根据权利要求7所述的掩模,其中,所述至少一个单元掩模的与所述开口掩模重叠的所述部分的面积与所述至少一个单元掩模的总面积的比例在1/3至1/4的范围内。

9.根据权利要求1所述的掩模,其中,所述单元掩模包括:

10.根据权利要求9所...

【专利技术属性】
技术研发人员:安洪均李炳一张泽龙高政佑李丞赈
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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