黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用颜料分散阻剂组合物、及黑阻剂膜制造技术

本发明专利技术涉及黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用颜料分散阻剂组合物、及黑阻剂膜。具体的，本发明专利技术的黑矩阵用颜料分散组合物是含有碳黑、无机化合物、含碱性基团的颜料分散剂、含酸性基团的颜料分散助剂、碱可溶性树脂、及溶剂的黑矩阵用颜料分散组合物，所述无机化合物是选自由氢氧化铝、氧化铝、硫酸钡、钛酸钡、氮化硼、及离子捕捉剂所组成的群中的一种以上，所述碱可溶性树脂是碱可溶性卡多树脂，所述无机化合物相对于所述碳黑100质量份为1～10质量份。该黑矩阵用颜料分散组合物能够获得细线密接性及耐表面粗糙性优异的黑矩阵用颜料分散阻剂组合物。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用颜料分散阻剂组合物、及黑阻剂膜。

技术介绍

1、目前已知有含有碳黑、无机化合物、含碱性基团的颜料分散剂、含酸性基团的颜料分散助剂、碱可溶性树脂、及溶剂的黑矩阵用颜料分散组合物，及含有该黑矩阵用颜料分散组合物、光聚合性化合物、及光聚合引发剂的黑矩阵用颜料分散阻剂组合物(专利文献1～2)。

2、现有技术文献：

3、专利文献1：日本特开2021-173876号公报

4、专利文献2：日本特开2021-038289号公报

技术实现思路

1、[专利技术欲解决的问题]

2、要想使用如上所述的黑矩阵用颜料分散阻剂组合物来形成黑矩阵的图案，一般，在将黑矩阵用颜料分散阻剂组合物涂布在衬底上形成阻剂膜后，利用通过具有所需图案的掩模的紫外线进行曝光，使曝光部的阻剂膜硬化后，利用显影液去除未曝光部的阻剂膜。因此，一般，如专利文献1～2所述，要求黑矩阵用颜料分散阻剂组合物具有细线密接性(分辨率)。

3、另一方面，近年来，为了提高本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种黑矩阵用颜料分散组合物，其是含有碳黑、无机化合物、含碱性基团的颜料分散剂、含酸性基团的颜料分散助剂、碱可溶性树脂、及溶剂的黑矩阵用颜料分散组合物，该黑矩阵用颜料分散组合物的特征在于：

2.一种黑矩阵用颜料分散阻剂组合物，其特征在于：含有根据权利要求1所述的黑矩阵用颜料分散组合物、光聚合性化合物、及光聚合引发剂。

3.一种黑阻剂膜，其是由根据权利要求2所述的黑矩阵用颜料分散阻剂组合物所形成。

【技术特征摘要】

1.一种黑矩阵用颜料分散组合物，其是含有碳黑、无机化合物、含碱性基团的颜料分散剂、含酸性基团的颜料分散助剂、碱可溶性树脂、及溶剂的黑矩阵用颜料分散组合物，该黑矩阵用颜料分散组合物的特征在于：

2.一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：平井淳一，辻康人，户田光信，中川朋树，村上奈月，藤井真奈，
申请(专利权)人：阪田油墨股份有限公司，
类型：发明
国别省市：