【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于制造半导体的设备，更具体地说，是涉及一种立式炉。
技术介绍
1、当前光伏行业的扩散，氧化、退火、掺杂、pecvd(低压化学气相沉积法)，lpcvd(等离子增强化学气相沉积法)等工艺生产有立式炉和卧式炉两种类型，这两种类型的结构都需要将硅片装在特定的载具中传输入反应腔体内进行工艺，通过通入的特定的反应气体，从而实现对硅片进行特定的镀膜，扩散，氧化和薄膜沉积等工艺。在现有的两层炉管设计中，利用底座和顶壁分别将双层炉管的两端密封起来形成直通的腔体，将待处理的硅片放在直通腔体内，利用双层炉管上的加热层对直通腔体进行加热。
2、但是上述的这种结构的炉管存在的问题主要是：载具舟的结构为固定，无法调节位置及角度。此种放置方式，会导致通入反应气体或者升温温度差异时，气场和热场局部不均匀，导致高温情况下分解与硅片反应时，出现均匀性差，影响整体的工艺良率，导致同批次做出来的电池片良莠不齐。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种立式炉，以解决现有技术中存在的由于载具舟的位置固...
【技术保护点】
1.一种立式炉，其特征在于，包括围合形成容纳腔的上炉盖、下炉门、外炉管以及内炉管，其中，所述上炉盖和所述下炉门分别设置在所述外炉管的上下两端，所述内炉管设置在所述外炉管的内侧，所述内炉管靠近所述下炉门的一端为封闭端且所述封闭端与所述下炉门之间保持有距离；
2.如权利要求1所述的立式炉，其特征在于，所述载具舟承载装置包括：
3.如权利要求2所述的立式炉，其特征在于，所述驱动装置包括：
4.如权利要求2所述的立式炉，其特征在于，第一承载件包括间隔设置在所述第一旋转底座上的多个挂放板，每个挂放板上设有用于供载具舟上的挂钩挂住的挂钩孔。p>
5.如权利...
【技术特征摘要】
1.一种立式炉，其特征在于，包括围合形成容纳腔的上炉盖、下炉门、外炉管以及内炉管，其中，所述上炉盖和所述下炉门分别设置在所述外炉管的上下两端，所述内炉管设置在所述外炉管的内侧，所述内炉管靠近所述下炉门的一端为封闭端且所述封闭端与所述下炉门之间保持有距离；
2.如权利要求1所述的立式炉，其特征在于，所述载具舟承载装置包括：
3.如权利要求2所述的立式炉，其特征在于，所述驱动装置包括：
4.如权利要求2所述的立式炉，其特征在于，第一承载件包括间隔设置在所述第一旋转底座上的多个挂放板，每个挂放板上设有用于供载具舟上的挂钩挂住的挂钩孔。
5.如权利要求4所述的立式炉，其特征在于，所述载具舟承载装置还包括：第一隔热件，设置在所述第一旋转底座上，其中心区域设有供所述多个挂放板穿设的多个限位孔。
6.如权利要求4所述的立式炉，其特征在于，所述载具舟承载装置还包括：第二隔热件，设置在所述第一旋转底座上，其边缘区域设有供所述多个挂放板穿设的多个缺口。
7.如权利要求1所述的立式炉，其特征在于，所述载具舟承载装置包括：
8.如权利要求7所述的立式炉，其特征在于，所述驱动装置包括：
9.如权利要求7所述的立式炉，其特征在于，所述每一对第二承载件中的每个第二承载件包括承载固定部和承载活动部，所述承载固定部固定设置在所述第二旋转底座上，所述承载活动部可转动地设置在所述承载固定部上。
【专利技术属性】
技术研发人员：邓金生，李学文，李操政，熊峰，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。