流体的、尤其是用于釉料的流体分配装置制造方法及图纸

一种流体分配装置，尤其是用于釉料的分配装置，该装置包括圆柱形分配器主体（２），所述分配器主体（２）在其第一端部（２ａ）可连接到将要分配的流体的供应导管上，并且可设置在流体分布器装置（３）的内部，该流体分布器装置（３）可围绕纵轴（Ｘ）旋转。分配器主体（２）具有分配区（５），所述分配区（５）包括多个用于排出流体的开口（６），而且具有不一致的尺寸。设在主体（２）的内部（２ｃ）的开口（６）与外部连通，并在侧面（２ｄ）上朝离开主体（２）的第二端部（２ｂ）的方向延伸预定的长度（ｄ）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种流体分配装置，尤其是通称为"吸管"的釉料分 配装置，所述分配装置将会与通称为"圆盘组"用于分布的装置结合 使用，并涂敷一层涂料或釉料或其它装饰性成分。
技术介绍
釉料涂敷装置为人所共知，这种装置包括整个圆柱形分布器主体， 其预先设置成围绕上釉室内部的旋转轴线旋转。分布器主体或装置包括圆柱形中心导管，在所述圆柱形中心导管 上同轴地用键固定一系列的圆盘，所述一系列圆盘彼此相互堆叠，以 限定上述圆柱体。分配器主体或吸管可以插入中心导管的内部，所述分配器主体具 有第一开口端部，且流体或釉料从所述第一开口端部供应，且到达中 心导管的内部。分配器主体的第二端部与笫一端部轴向相对，该第二端部封闭， 并位于圆盘组的底部附近。分配器主体侧面的一部分，尤其是位于分布器装置内部的部分具 有多个径向开口或孔，所有开口或孔都具有相同的孔径，而与其轴向 位置无关。釉料从这些开口中排出。导管与旋转轴线同轴，所述导管沿着其轴向长度具有多个轴向开 口，这些轴向开口使流体釉料能通过。当圆柱形主体以预定的速度围绕旋转轴线和分配器主体旋转时， 流体被引入到分配器主体中，并朝向圆盘组的外部径向分布，而且从 孔中排出并射向将要上釉的制品。现有技术中的这些装置具有某些缺点或不利情况。首先，分配器主体相对于中心导管要求精确角定位，以便使釉料 能良好分布。实际上，各开口通常以恒定间隔布置在分配器主体的一个或多个 基体上。在最关键的情况下，如果布置在单一基体上，分配器主体则 必须成角度地取向，这样以便面对中心导管的下部。因为由分配器主 体和分布器装置构成的系统位于上釉室的上部中，所以该角位置使釉 料的分布能优选地朝向该室的下部取向，这里设有用于砖瓦的通路。 所述取向是实施困难的操作，而且在所需精度方面难以做到，因为其 实施是将分配器主体插入圆盘组的中心导管中，而且不能目视控制具 有多个开口的基体所具有的实际位置。在各基体本身之间，不同基体的孔间隔可以同相或可以交错。在两种情况下，都存在分配器主体没有开口的一些部分横过轴线。 因此，釉料沿着分配器主体轴线的分布不连续而且不均匀，并因此最 终上釉具有低标准的质量。另外，由于阻碍从分配器主体开口朝径向流出的釉料的流体流， 所以由圆盘组在旋转时放入的空气的流体流中观察到有相当大的紊 流。这种紊流也会造成釉料的分布的不均匀性。分配器主体中孔的孔径经常与将要涂敷的釉料的量不是正确地成 比例，结果在调节和微调将要供应到分配器主体的釉料流方面造成困 难。尤其是在装置暂停不用期间，釉料的沉积可能引起导管的孔和分 配器主体的开口逐渐堵塞，因此改变了被分布的实际釉料的量。最后，开口在分配器主体上延续它的一定轴向长度，该轴向长度 总是相同且与圆盘组的轴向尺寸无关。在大多数情况下，分配器主体 上的开孔延续的长度比圆盘组的长度短，因而不充分和不足以保证釉 料的均匀分布。另外，没有基准使分配器主体能沿着圆盘组的轴线正确地定位 在圆盘组内部分配器主体的有孔部分经常正确地纵向定心仅代表安装 操作人员的精度。不太正确的联接可能在圆盘组内部引起釉料的分布不完全和不均匀，其结果是使装置的功能不良。不同类型的上釉室具有分配器主体的不同尺寸的连接系统。尤其 是，这些系统是在分配器主体的圆柱体上具有密封连接的不同额定直 径的螺紋。已知的分配器主体采用具体结构的解决方案，对于每个连 接系统具有圆柱体的不同直径。因此，迫使设备操作人员对设备中存 在的每种类型的上釉室都具有可用的分配器主体。
技术实现思路
本专利技术的技术任务是提供一种流体分配装置，尤其是用于釉料流 体分配装置，这种分配装置不具有现有技术的装置中存在的上述缺点。在技术任务的范围内，本专利技术的目的是可利用一种流体分配装置， 尤其是釉料分配装置，这种分配装置使釉料能沿着圆盘组的整个的轴 向的长度并在将要加工的制品上均匀而连续地分布。本专利技术的另一个目的是可利用一种流体分配装置，尤其是釉料分 配装置，这种分配装置可容易地设置在分布装置的内部，尤其是圆盘 组的内部，该分布装置可适合于任何轴向尺寸的圆盘组和不同类型的 上釉室的连接系统。最后，本专利技术的目的是实现一种流体分配装置，尤其是釉料分配 装置，这种分配装置经济实用，且不要求很高的维护水平。这些目的和此外另 一些目的将从下面的说明中更好地具有出来， 而基本上是通过一种流体分配装置，.尤其是釉料分配装置达到，这种 分配装置具有在权利要求l中和/或与其有关的一个或多个从属权利要 求中所述的特征。附图说明流体分配装置的另一些特点和优点将从本文下面参照附图所作的 详细说明中更好地具有出来，所述附图仅仅作为非限制性示例提出， 其中-.图l是本专利技术的釉料分配装置的侧视6图2是图1中装置的侧面剖视图3是图1中流体分配装置的分解图4表示装配在釉料分配装置内部的本专利技术物体的剖视图。具体实施例方式参见附图，编号l表示流体分配装置，尤其是用于釉料的分配装置。在本专利技术中，装置1由分配器主体2限定，所述分配器主体2优 选地是圆柱形，并具有纵轴线X。所述分配器主体2包括第一端部2a，所述第一端部2a优选地制 有螺紋，可连接到将要分配的流体，优选地是釉料的供应源(未示出) 上。所述分配器主体2可设置在流体分布器装置3的内部，如图4中 所示，可围绕纵轴线X旋转，并且是一种可用于砖瓦上釉的类型。流 体分布器装置3包括圆盘组，其称为圆盘组的原因是由于它包括多个 同轴的圆盘，这些同轴圆盘彼此相互叠置，并轴向地隔开。圆盘组同 心地具有圆柱形导管4 (图4),所述圆柱形导管4设有多个径向开口 4a，预先设置这些径向开口 4a，以使将要分布的流体能通过。分配器主体2同轴地可插入分布器装置3的内部，而且尤其是可 插入圆柱形导管4的内部。分布器装置3和分配器主体2位于上釉室(未示出)的内部。连 接到上釉室的分配器主体2伸出地安装并处于固定位置，而围绕分配 器主体2的分布器装置3则绕轴线X旋转。如图1、 2和3可以看到，圆柱形分配器主体2示出分配区5，所 述分配区5包括多个用于流体流出的开口 6，所述开口 6^f吏主体2的 内部2c与外部连通。这些开口 6在离开主体2的第二端部2b的方向上遍布侧面2d延 续预定的长度，所述预定的长度优选地在主体2总长度的1/5到1/2 之间可变化。长度d根据分布器装置3的轴向尺寸确定。尤其是分配器装置被设置具有分配区5的两个不同长度，专门用于与分布器装置 3的两个不同标准相对应的两个轴向尺寸。主体2沿着与轴线X平行的方向接收来自供应源的流体，并沿着 相对于轴线X的径向方向分布该流体。从开口 6流出的釉料以流体流的形式排出。在横过圆盘组时，所 述流分成小尺寸的颗粒或滴，并因此釉料被基本上均匀地分布在砖瓦 上，该砖瓦同样未示出。开口6的尺寸不是一致的；尤其是，它们沿着至少部分螺旋形的 轨迹分布在主体2的侧面上，如图l中可清楚地看到。仍是参见图1，开口 6具有不同和等级的尺寸，优选地在靠近分 配器主体2的第二端部2b的方向上沿着螺旋形轨迹逐渐减小。开口 6 限定的连续而改变尺寸。确定上述开口尺寸变化的关系(regime),以 便根据在分配器主体2的本体上同轴旋转时分布器装置3的入口内的 流体动力学，来优化釉料沿着整个分配区5的流出。换句话说，目的 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种流体分配装置，尤其是用于釉料的流体分配装置，该流体分配装置包括圆柱形分配器主体（２），所述分配器主体（２）可在其第一端部（２ａ）处连接到要分配的流体的供应导管上，并且该分配器主体（２）可设置在流体分布器装置（３）的内部，所述流体分布器装置（３）围绕纵轴线（Ｘ）能旋转；分配器主体（２）具有分配区（５），所述分配区（５）包括多个用于排出流体的开口（６），所述开口（６）使主体（２）的内部（２ｃ）与外部连通，并在离开主体（２）的第二端部（２ｂ）的方向上在侧面（２ｄ）上延伸预定的长度（ｄ）；所述流体分配装置（１）的特征在于，开口（６）具有不一致的尺寸，并沿着至少部分螺旋形轨迹分布在主体（２）的侧面（２ｄ）上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：B弗兰基尼，
申请(专利权)人：FM有限责任公司，
类型：发明
国别省市：IT[意大利]