一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法技术

本发明专利技术提供一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法。该方法从阵列天线的角度出发研究该场景下的散射问题，将超表面的散射场等效为入射波作为激励引起的超表面的辐射场，组成超表面的每个单元都等效为一个天线阵元。因此，可以用阵列天线理论计算超表面的散射场。在确定计算所需的所有参数后，通过坐标变换关系可以将任意角度入射问题转化为垂直入射问题，从而可以简化计算。根据入射波方向图函数计算得到超表面上每个单元的激励信息，再利用超表面单元的辐射特性可以计算得到每个单元的散射场。最后，将所有单元的散射场进行叠加即可得到整个超表面的散射场空间分布。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及涡旋波散射领域，尤其涉及一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法。

技术介绍

1、携带有轨道角动量（orbital angular momentum，oam）的电磁波具有螺旋状的波前结构，因此被称为oam涡旋波。这种特殊的波前结构使得oam涡旋波的散射特性与传统平面波或球面波变得截然不同，在雷达目标成像与探测领域具有广阔的应用前景。超表面作为超材料的一种二维等效结构，能够通过调节媒质交界面处的相位改变电磁波的传播状态。oam涡旋波与超表面之间的散射作用对于超表面目标的探测问题具有重要意义。现提出一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法，可以快速分析计算oam涡旋波与超表面目标之间的散射作用，预测散射场的空间分布，为利用oam涡旋波探测超表面目标提供有力分析工具。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于针对上述现有技术的不足，提供了一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法，可以高效的获得oam涡旋波与超表面目标散射作用下的场分布。

2、为实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：...

【技术保护点】

1.一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法，其特征在于：所述S1中，

3.根据权利要求2所述的一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法，其特征在于，所述S2具体为：

4.根据权利要求3所述的一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法，其特征在于，所述S3具体为：

5.根据权利要求4所述的一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法，其特征在于，所述S4具体为：

6.根据权利要求5所述的一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法，其特征在于，所...

【技术特征摘要】

1.一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法，其特征在于：所述s1中，

3.根据权利要求2所述的一种涡旋波入射下的超表面散射特性计算方法，其特征在于，所述s2具体为：

4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：张迪，汤子跃，朱振波，贺昌辉，陈强，余方利，张袁鹏，
申请(专利权)人：中国人民解放军空军预警学院，
类型：发明
国别省市：