【技术实现步骤摘要】
本文描述的实施例涉及用于带电粒子束系统中(例如在电子显微镜中,特别是在扫描电子显微镜(sem)中)的带电粒子束的透镜。此外,本公开的实施例涉及物镜和将带电粒子束聚焦在样品上的方法。实施例进一步涉及切换聚焦操作模式的方法。具体地,实施例涉及用于带电粒子束装置的具有透镜部件的透镜、带电粒子束装置以及利用具有透镜部件的透镜将带电粒子束聚焦在样品上的方法。
技术介绍
1、现代半导体技术对构建和探测纳米甚至亚纳米尺度的样品提出了很高的要求。通常用在带电粒子束系统(诸如电子显微镜或电子束图案发生器)中生成、整形、偏转和聚焦的带电粒子束(例如,电子束)来完成微米和纳米尺度的工艺控制、检查或构造。出于检查目的,带电粒子束与例如光子束相比提供了优异的空间分辨率。
2、使用带电粒子束的装置(诸如扫描电子显微镜(sem))在多个工业领域中具有许多功能,包括但不限于电子电路的检查、用于光刻的曝光系统、检测系统、缺陷检查工具和用于集成电路的测试系统。在这种粒子束系统中,可使用具有高电流密度的细束探针。例如,在sem的情况下,一次电子束生成二次电子(s
...【技术保护点】
1.一种用于带电粒子束装置的透镜,所述透镜具有透镜部件,所述透镜部件包括:
2.如权利要求1所述的透镜,其中所述第一内直径和所述第二内直径中的至少一者是所述第三内直径的至少3倍,特别是至少5倍。
3.如权利要求1至2中任一项所述的透镜,其中所述下极片具有第一部分和与所述第一部分间隔开的第二部分,并且其中所述静电透镜的所述下电极由所述第二部分提供。
4.如权利要求1至2中任一项所述的透镜,进一步包括:
5.如权利要求4所述的透镜,进一步包括:
6.如权利要求1至2中任一项所述的透镜,其中所述上电极的第四内直径小
...【技术特征摘要】
1.一种用于带电粒子束装置的透镜,所述透镜具有透镜部件,所述透镜部件包括:
2.如权利要求1所述的透镜,其中所述第一内直径和所述第二内直径中的至少一者是所述第三内直径的至少3倍,特别是至少5倍。
3.如权利要求1至2中任一项所述的透镜,其中所述下极片具有第一部分和与所述第一部分间隔开的第二部分,并且其中所述静电透镜的所述下电极由所述第二部分提供。
4.如权利要求1至2中任一项所述的透镜,进一步包括:
5.如权利要求4所述的透镜,进一步包括:
6.如权利要求1至2中任一项所述的透镜,其中所述上电极的第四内直径小于所述第一内直径。
7.一种带电粒子束装置,包括:
8.如权利要求7所述的带电粒子束装置,其中所述台被配置为将所述样品支撑在使得所述透镜定位在所述带电粒子束源与所述样品之间...
【专利技术属性】
技术研发人员:B·库克,P·克鲁特,
申请(专利权)人:ICT半导体集成电路测试有限公司,
类型:发明
国别省市:
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