光学系统技术方案

提供了光学系统和包括该光学系统的激光装置。光学系统包括：第一透镜，包括第一表面和与第一表面相对的第二表面，第一透镜具有第一焦距；第二透镜，包括第三表面和与第三表面相对的第四表面，第二透镜具有第二焦距；以及第三透镜，在第一透镜和第二透镜之间并且与第一透镜间隔开第一焦距的两倍。

【技术实现步骤摘要】

实施方式的方面涉及光学系统。此外，实施方式的方面涉及光学系统和包括该光学系统的激光装置。

技术介绍

1、通常，作为将非晶硅层结晶成多晶硅层的方法，使用固相结晶(spc)、金属诱导结晶(mic)、金属诱导横向结晶(milc)和准分子激光退火(ela)。例如，使用激光束将非晶硅结晶成多晶硅的准分子激光退火主要在有机发光显示装置或液晶显示装置的制造工艺中使用。

2、在准分子激光退火(ela)中使用的激光装置包括产生源激光束的激光发生器。源激光束是未处理的原始激光束，并且具有具备主轴和辅轴的矩形剖面。源激光束在主轴方向和辅轴方向二者上都具有高斯分布的能量分布。高斯分布是指关于平均值横向对称的正态分布。

3、然而，当在激光装置的多个枪头之间出现振动时，源激光束的能量分布可能偏离正态分布并且可能变得横向不对称。在这种情况下，在多晶硅层中可能出现结晶缺陷。由于这个原因，已经开发了复杂的光学系统来消除源激光束的不对称性，但是可能存在的问题是，因为可能需要大量的光学透镜，空间可能受到限制，并且光束对准可能困难，所以光效率降低。p>

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【技术保护点】

1.光学系统，包括：

2.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述第一焦距小于所述第二焦距。

3.根据权利要求2所述的光学系统，其中，所述第二焦距大于或等于所述第一焦距的1.2倍并且小于或等于所述第一焦距的1.6倍。

4.根据权利要求1所述的光学系统，其中，

5.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述第一透镜的所述第二表面和所述第二透镜的所述第三表面彼此平行。

6.根据权利要求1所述的光学系统，其中，

7.根据权利要求1所述的光学系统，其中，

8.根据权利要求1所述的光学系统，其中，

9.根...

【技术特征摘要】

1.光学系统，包括：

2.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述第一焦距小于所述第二焦距。

3.根据权利要求2所述的光学系统，其中，所述第二焦距大于或等于所述第一焦距的1.2倍并且小于或等于所述第一焦距的1.6倍。

4.根据权利要求1所述的光学系统，其中，

5.根据权利要求1所述的光学系统...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐宗吾，金志桓，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：