一种紫外线反射膜及其制备方法与应用技术

本发明专利技术公开了一种紫外线反射膜及其制备方法与应用，属于光学薄膜技术领域。所述紫外线反射膜包括依次设置的第一膜堆、第二膜堆、第三膜堆、第四膜堆及基片。本发明专利技术对反射膜的膜层层叠结构进行优化设计，依次设置第一膜堆、第二膜堆、第三膜堆及第四膜堆，在第一膜堆、第二膜堆及第三膜堆中分别引入适量的氧化铝与氧化铪复配作为高折射率层，以氧化硅作为低折射率层，并对各膜堆中膜层数量及各膜层的光学厚度进行调控，不仅能够有效降低膜层成本，有效提高反射膜激光损伤阈值，还能有效提高反射膜的紫外线反射率，扩展反射膜的高反射率带宽，使本发明专利技术的反射膜能够满足光固化成型3D打印使用场景的需求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学薄膜，具体涉及一种紫外线反射膜及其制备方法与应用。

技术介绍

1、近几年，随着光固化成型3d打印技术的大规模应用，紫外光高反膜的开发得到了快速发展；而紫外光高反膜是光固化成型3d打印设备的核心零部件，用于反射聚集紫外激光，从而实现高分子材料光固化和快速成型。基于光固化成型3d打印使用场景需求，3d打印设备对紫外光高反膜的反射率要求较高，且兼具大带宽和高激光损伤阈值。金属膜虽然对紫外光具有高反射率，但其高反射带宽往往较小，而且由于户外环境的腐蚀作用，导致其耐久性和服役寿命较差。为了提高光固化成型3d打印设备的打印效率和寿命，迫切需要开发出具有高紫外光反射率、超带宽和高激光损伤阈值的高反膜，用于高分子材料光固化成型及3d打印。

2、公开号为cn113151783a的专利技术专利公开了一种组合型反射膜，包括底部膜层、中部膜层和顶部膜层，所述中部膜层由不同光学厚度的高折射率材料和低折射率材料交替形成，其中所述高折射率材料为hfo2和ta2o5或hfo2和zro2，所述低折射率材料为sio2，所述顶部膜层由不同光学厚度的ta2o5和si本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种紫外线反射膜，其特征在于，包括依次设置的第一膜堆、第二膜堆、第三膜堆、第四膜堆及基片；其中，

2.如权利要求1所述紫外线反射膜，其特征在于，在所述第一膜堆中，第一膜层与第一氧化硅膜层交替层叠成周期性结构(H1L1)x，其中，H1表示第一膜层，L1表示第一氧化硅膜层，x为第一膜堆的周期数，第一膜层的光学厚度为a，第一氧化硅膜层的光学厚度为b，x＝10-24，a＝1.00-1.10，b＝1.00-1.10。

3.如权利要求1所述紫外线反射膜，其特征在于，所述第一膜层包括如下质量百分比的组分：Al2O3 10-20％，HfO2 80-90％。

4.如...

【技术特征摘要】

1.一种紫外线反射膜，其特征在于，包括依次设置的第一膜堆、第二膜堆、第三膜堆、第四膜堆及基片；其中，

2.如权利要求1所述紫外线反射膜，其特征在于，在所述第一膜堆中，第一膜层与第一氧化硅膜层交替层叠成周期性结构(h1l1)x，其中，h1表示第一膜层，l1表示第一氧化硅膜层，x为第一膜堆的周期数，第一膜层的光学厚度为a，第一氧化硅膜层的光学厚度为b，x＝10-24，a＝1.00-1.10，b＝1.00-1.10。

3.如权利要求1所述紫外线反射膜，其特征在于，所述第一膜层包括如下质量百分比的组分：al2o3 10-20％，hfo2 80-90％。

4.如权利要求1所述紫外线反射膜，其特征在于，在所述第二膜堆中，第二膜层与第二氧化硅膜层交替层叠成周期性结构(h2l2)y，其中，h2表示第二膜层，l2表示第二氧化硅膜层，y为第二膜堆的周期数，第二膜层的光学厚度为c，第二氧化硅膜层的光学厚度为d，y＝10-24，c＝1.20-1.40，d＝1.20-1.40。

5.如权利要求1所述紫外线反射膜，其特征在于，所述第二膜层包括如下质量百分比的组分：al2o3 20-3...

【专利技术属性】
技术研发人员：覃家祥，杨波，刘洁，罗忠富，叶南飚，陈平绪，
申请(专利权)人：金发科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：