【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于微纳光学和超分辨显微成像领域，特别是一种用于显微成像的等波长周期光栅纵向深度结构光照明发生器。
技术介绍
1、结构光照明显微成像技术采用不同模式的结构化光束照明样品，并采集多幅图像。通过将这些采集的图像进行重建，可以获得目标的超分辨图像。光栅是一种常用的产生结构光的工具，利用光栅的衍射和干涉特性能产生各种不同模式的结构光。2000年，gustafsson首次在实验中验证了结构光照明显微成像技术的超分辨结果，其使用的正弦条纹结构光就是基于光栅产生的。在该实验中，一个线性透射相位光栅被多模光纤发射的线偏光照射，产生的+1和-1阶衍射光发生干涉，形成了正弦条纹结构光。2008年，gustafsson使用多模光纤激发线偏光照射光栅，利用产生的0阶和±1阶衍射光的干涉形成了三维的结构光，首次实现了三维的结构光照明显微成像技术。此外，一种基于光栅泰伯效应的结构光照明显微成像技术也被人们提出。在泰伯效应中，光栅激发的各阶衍射光相互干涉，在远场产生周期性的结构光场。然而，无论是否使用光栅激发结构光，常规结构光照明显微成像技术的分辨率至多达...
【技术保护点】
1.一种用于显微成像的等波长周期光栅纵向深度结构光照明发生器，其特征在于，所述结构光照明发生器包括玻璃衬底和沉积在所述玻璃衬底上的金属光栅；
2.根据权利要求1所述的用于显微成像的等波长周期光栅纵向深度结构光照明发生器，其特征在于，所述结构光的横向条纹分布周期为半波长大小；所述结构光用于照明探测成像，实现对在一定深度处的目标样品的超分辨探测成像。
3.根据权利要求2所述的用于显微成像的等波长周期光栅纵向深度结构光照明发生器，其特征在于，在进行超分辨探测成像过程中，待探测的目标样品放置在载玻片上，所述载玻片与金属光栅上表面保持平行放置，载玻片到金...
【技术特征摘要】
1.一种用于显微成像的等波长周期光栅纵向深度结构光照明发生器，其特征在于，所述结构光照明发生器包括玻璃衬底和沉积在所述玻璃衬底上的金属光栅；
2.根据权利要求1所述的用于显微成像的等波长周期光栅纵向深度结构光照明发生器，其特征在于，所述结构光的横向条纹分布周期为半波长大小；所述结构光用于照明探测成像，实现对在一定深度处的目标样品的超分辨探测成像。
3.根据权利要求2所述的用于显微成像的等波长周期光栅纵向深度结构光照明发生器，其特征在于，在进行超分辨探测成像过程中，待探测的目标样品放置在载玻片上，所述载玻片与金属光栅上表面保持平行放置，载玻片到金属光栅的距离在结构光的纵向传播范围内。
4.根据权利要求3所述的用于显微成像的等波长周期光栅纵向深度结构光照明发生器，其特征在于，所述待...
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