紫外线滤光材料总量降低的且含聚硅氧烷类紫外线滤光材料的光防护组合物制造技术

技术编号:417885 阅读:184 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及含有至少一种聚硅氧烷类紫外线滤光材料的光防护组合物。该组合物的防晒系数与紫外线滤光材料总量之比得到提高。这是通过与至少一种发色团含有适宜的体积大(耗费空间)的基团作为立体位阻基团的紫外线滤光材料进行组合而实现的。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】紫外线滤光材料总量降低的且含聚硅氧烷类紫外线滤光材料的光防护组合物在暴露于越来越多的损伤性阳光的人群中,对防晒剂(sunscreenprotecting agent)存在着持续增长的需求。反复的日光照射可以引起被称为光老化皮肤的皮肤改变。光老化皮肤所呈现的临床变化不同于身体上受到防日光保护部位的正常老化的皮肤。皮肤受到大规模日光照射后引起的损伤结果包括皱纹增多、弹性组织变性、色素改变(pigmentary changes)、癌变前及癌性皮肤病损等。因此,过去已开发了许多遮光化合物(sunscreening compound)来防止UV-A(320-400nm)和/或UV-B(290-320nm)波长,甚至是更短波长(UV-C滤光材料)的有害作用。特别成功的紫外线滤光材料是最近开发的紫外线滤光材料,其基于带有发色团的线性或环状聚硅氧烷,该材料描述于WO 93/04665、WO94/06404、EP-B 538 431、EP-A 392 883和EP 358 584中。EP 897715中已表明下述遮光剂(sunscreens)比仅含有有机化合物的遮光剂表现出更高的防晒系数(light 本文档来自技高网...

【技术保护点】
光防护组合物,其包含    a)至少一种聚硅氧烷类紫外线滤光材料,    b)至少一种其它的紫外线滤光材料,该材料的发色团含有适宜的体积大(耗费空间)的取代基,    c)组分a)、b)和d)的载体,    以及任选的    d)一种或多种其它紫外线滤光材料,    条件是该组合物中不存在4,4′,4″-(1,3,5-三嗪-2,4,6-三基三亚氨基)-三苯甲酸三(2-乙基己酯)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2003-11-5 03025408.01.光防护组合物,其包含a)至少一种聚硅氧烷类紫外线滤光材料,b)至少一种其它的紫外线滤光材料,该材料的发色团含有适宜的体积大(耗费空间)的取代基,c)组分a)、b)和d)的载体,以及任选的d)一种或多种其它紫外线滤光材料,条件是该组合物中不存在4,4′,4″-(1,3,5-三嗪-2,4,6-三基三亚氨基)-三苯甲酸三(2-乙基己酯)。2.权利要求1或2的光防护组合物,其中聚硅氧烷类紫外线滤光材料是式Ia或Ib的化合物:其中X是R或A;A选自式IIa、IIb或IIc:-->R是氢、C1-6烷基或苯基;R1和R2各自独立地为氢、羟基、C1-6烷基或C1-6烷氧基;R3是C1-6烷基;R4是氢或C1-6烷基;R5和R6各自独立地为氢或C1-6烷基;r为0至250;s为0至20;r+s至少为3;t为0至10;v为0至10;v+t至少为3;和n为1至6;条件是当s为0时,至少一个X为A。3.权利要求3的光防护组合物,其中X为甲基,A为式IIa或IIb的基团,R为甲基,R1和R2各自为氢,R3为乙基,R4为氢,R5和R6为氢,r为约60的统计平均值,s为约4的统计平均值,和-->n的值为1。4.权利要求1-3中任一项的光防护组合物,其中紫外线过滤材料的体积大(耗费空间)的取代基为二乙氨基、叔丁基、1,1,3,3-二甲基丁基、樟脑、或甲硅烷基残基,例如2-甲基-3-[1,3,3,3-四甲基-1-[(三甲基甲硅烷基)氧]二硅氧烷基]丙基-或4-三(三甲基甲硅烷氧基甲硅烷基丙氧基)。5.权利要求1-4中任一项的光防护组合物,其中含有体积大取代基的紫外线过滤材料选自2-(4-二乙氨基-2-羟基-苯甲酰基)-苯甲酸己...

【专利技术属性】
技术研发人员:托马斯鲁道夫克里斯蒂娜特雷格卡特贾伯格沃尔克谢尔曼霍斯特韦斯坦费尔德
申请(专利权)人:DSMIP资产公司
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]

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