【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造领域,具体地,涉及一种接头组件、喷淋装置及炉管清洗机。
技术介绍
1、氧化炉是半导体领域超大规模集成电路制造专用设备,适用于扩散、氧化、退火等多种工艺,是半导体芯片生产线关键设备之一。
2、在工艺过程中,氧化炉的炉管内外壁表面会逐渐生成一层结晶。随着使用次数的增加,炉管内壁的结晶最终会在内部应力的作用下脱落并附着在晶圆上,严重影响晶圆的质量。因此,需要定期对炉管内外表面进行清洗,除去表面的结晶层。
3、现有技术中,除去结晶层的主要方式是依靠炉管清洗机,采用一定比例的氢氟酸或硝酸溶液冲洗表面的结晶层。炉管清洗机以喷淋的方式对炉管1的外壁和内壁进行清洗。如图1所示,立式炉管清洗机包括转盘2、外壁喷淋供装置3和内壁喷淋装置4。
4、在清洗时,将炉管1放置于转盘2上,通过电机驱动转盘2转动,从而带动炉管1转动。在炉管1转动的过程中,通过外壁喷淋供装置3和内壁喷淋装置4分别对炉管1的外壁和内壁喷洒清洁液,完成了炉管的外壁清洗。
5、然而,现有技术中的内壁喷淋装置喷液角度都是固定的
...【技术保护点】
1.一种接头组件,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的接头组件,其特征在于,
3.根据权利要求2所述的接头组件,其特征在于,
4.根据权利要求2所述的接头组件,其特征在于,
5.根据权利要求2所述的接头组件,其特征在于,
6.根据权利要求1所述的接头组件,其特征在于,
7.根据权利要求6所述的接头组件,其特征在于,
8.根据权利要求2或6所述的接头组件,其特征在于,所述固定接头(10)包括:
9.根据权利要求2或6所述的接头组件,其特征在于,所述调节接头(20)包括
10...
【技术特征摘要】
1.一种接头组件,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的接头组件,其特征在于,
3.根据权利要求2所述的接头组件,其特征在于,
4.根据权利要求2所述的接头组件,其特征在于,
5.根据权利要求2所述的接头组件,其特征在于,
6.根据权利要求1所述的接头组件,其特征在于,
7.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:白思航,赵宏宇,李广义,
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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