组合物、表面处理剂、涂布液、物品、及物品的制造方法技术

本发明专利技术目的在于，提供耐摩擦性优异的组合物、表面处理剂、涂布液、具有耐摩擦性优异的表面层的物品、及其制造方法。一种组合物，其含有选自式(A1)所示的化合物、式(A2)所示的化合物、式(B1)所示的化合物、及式(B2)所示的化合物中的2种以上，且满足(I)～(III)。R<supgt;f1</supgt;‑(OR<supgt;f11</supgt;)<subgt;y1</subgt;‑O‑R<supgt;1</supgt;‑L<supgt;1</supgt;‑(R<supgt;11</supgt;‑T<supgt;1</supgt;)<subgt;x1</subgt;···(A1)R<supgt;f2</supgt;‑(OR<supgt;f12</supgt;)<subgt;y2</subgt;‑O‑R<supgt;2</supgt;‑L<supgt;2</supgt;‑(R<supgt;12</supgt;‑T<supgt;2</supgt;)<subgt;x2</subgt;···(A2)(T<supgt;3</supgt;‑R<supgt;13</supgt;)<subgt;x3</subgt;‑L<supgt;3</supgt;‑R<supgt;3</supgt;‑(OR<supgt;f13</supgt;)<subgt;y3</subgt;‑O‑R<supgt;23</supgt;‑L<supgt;13</supgt;‑(R<supgt;33</supgt;‑T<supgt;13</supgt;)<subgt;x13</subgt;···(B1)(T<supgt;4</supgt;‑R<supgt;14</supgt;)<subgt;x4</subgt;‑L<supgt;4</supgt;‑R<supgt;4</supgt;‑(OR<supgt;f14</supgt;)<subgt;y4</subgt;‑O‑R<supgt;24</supgt;‑L<supgt;14</supgt;‑(R<supgt;34</supgt;‑T<supgt;14</supgt;)<subgt;x14</subgt;···(B2)其中，式中的各符号如说明书所述。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及组合物、表面处理剂、涂布液、物品、及物品的制造方法。

技术介绍

1、具有氟原子的含氟醚化合物的低折射率、低介电常数、拒水/拒油性、耐热性、耐化学药品性、化学的稳定性、透明性等各特性优异，被用于在电气/电子材料、半导体材料、光学材料、表面处理剂等多种多样的领域。

2、例如，具有全氟聚醚链和水解性甲硅烷基的含氟醚化合物能够在基材的表面形成表现高的润滑性、拒水拒油性等的表面层，因此适合用于表面处理剂。包含含氟醚化合物的表面处理剂适合用于要求以下性能的用途：长时间维持即使表面层被手指反复摩擦，拒水拒油性也不易降低的性能(耐摩擦性)；及能够通过擦拭容易地将附着于表面层的指纹去除的性能(指纹污迹去除性)，例如适合用作构成触摸面板的手指接触面的构件、眼镜镜片、可穿戴终端的显示器的表面处理剂。

3、作为能够在基材的表面形成耐摩擦性优异的表面层的含氟醚化合物，提出了具有全氟聚醚链和水解性甲硅烷基的氟醚化合物(专利文献1)。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：国际公开第2018/14343本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种组合物，其含有选自下述式(A1)所示的化合物、下述式(A2)所示的化合物、下述式(B1)所示的化合物、及下述式(B2)所示的化合物中的2种以上，且满足下述(I)～(III)，

2.根据权利要求1所述的组合物，其含有所述式(A1)所示的化合物及所述式(A2)所示的化合物，或者含有所述式(B1)所示的化合物及所述式(B2)所示的化合物。

3.根据权利要求2所述的组合物，其中，Rf1与Rf2相同。

4.根据权利要求2或3所述的组合物，其中，

5.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，R1、R2、R3、R4、R23及R24各自独立地...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种组合物，其含有选自下述式(a1)所示的化合物、下述式(a2)所示的化合物、下述式(b1)所示的化合物、及下述式(b2)所示的化合物中的2种以上，且满足下述(i)～(iii)，

2.根据权利要求1所述的组合物，其含有所述式(a1)所示的化合物及所述式(a2)所示的化合物，或者含有所述式(b1)所示的化合物及所述式(b2)所示的化合物。

3.根据权利要求2所述的组合物，其中，rf1与rf2相同。

4.根据权利要求2或3所述的组合物，其中，

5.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，r1、r2、r3、r4、r23及r24各...

【专利技术属性】
技术研发人员：室谷英介，松浦启吾，青山元志，大野光，宇野诚人，川上贵史，
申请(专利权)人：AGC株式会社，
类型：发明
国别省市：