【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及医疗器械，尤其涉及一种充电器及充电系统。
技术介绍
1、三类有源植入神经刺激器是用于刺激神经系统的医疗设备，它们通过植入体内的方式，为特定的神经或神经束提供电刺激，以达到治疗或改善某些神经系统疾病的目的。
2、三类有源植入神经刺激器的电源分为一次性不可充电电源和可充电电源。
3、使用不可充电电源的三类有源植入神经刺激器植入人体时，由于需要保证系统在有效使用年限内持续使用，因此需要设置大容量供电电池，以满足产品的预期使用寿命。大容量供电电池的体积较大，使得三类有源植入神经刺激器的整体体积变大，增加了手术过程给患者带来创伤的风险，此外，使用较大体积的三类有源植入神经刺激器，会降低患者的舒适度。
4、使用可充电电源的三类有源植入神经刺激器植入人体时，由于能够进行充电，因此只需要保证系统在有限周期内能够持续使用，因此，能够大大减小电池的体积，能够使得三类有源植入神经刺激器的整体体积较小，减少了手术过程给患者带来创伤和不适感。
5、常见的三类有源植入神经刺激器为脑深部神经刺激器，脑深部神经刺激器通常被植入胸口，并通过导线将刺激信号传递至脑核。然而，长期使用后，导线可能会出现位置偏移，这不可避免地会影响脑深部神经刺激器的使用效果。另一方面，若考虑直接将脑深部神经刺激器植入脑部头盖骨，鉴于脑部结构的特殊性，将现有的充电器对刺激器进行充电会有一定的影响，将降低神经刺激器的充电效率。因此，本专利技术提出一种充电器及充电系统，以解决上述技术问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种充电器及充电系统，用于在接收区域内，接收线圈表面到发射线圈表面的距离处处相等或基本相同，从而提高接收区域内的磁通变化量，从而提高充电效率。
2、本专利技术的目的采用以下技术方案实现：
3、一方面，本专利技术介绍一种充电器，用于为植入式设备充电，所述植入式设备用于植入至用户颅骨，所述植入式设备包括接收线圈，所述充电器包括：
4、发射线圈，所述发射线圈用于与所述接收线圈耦接，所述发射线圈的至少部分区域为弧形，所述弧形至少与所述用户颅骨适配。
5、进一步的，所述发射线圈包括至少一层由导线缠绕形成的面状结构，所述面状结构为弧面设置。
6、进一步的，所述发射线圈的最大横切面的弧或弦的长度大于等于80mm，所述发射线圈的最大横切面的半径大于等于60mm，且小于等于100mm。
7、进一步的，所述发射线圈的均匀区的半径不超过所述接收线圈的半径与预设容错偏移量之和。
8、进一步的，所述发射线圈的均匀区的场强差最大值与场强平均值的比值不超过0.3。
9、进一步的，所述发射线圈的面积与所述接收线圈的面积的比值范围在8-20之间。
10、进一步的，所述发射线圈的正射投影形状为圆形或椭圆形，所述发射线圈的最大横切面的弧或弦的长度小于等于160mm。
11、进一步的，所述的充电器还包括：
12、隔磁片，所述隔磁片设置在所述发射线圈背向所述接收线圈的一侧，所述隔磁片具有与发射线圈的弧形相匹配的曲面结构。
13、进一步的，所述的充电器还包括壳体和电路板；
14、所述壳体包括用于容纳所述发射线圈的第一容纳空间和用于容纳所述电路板的第二容纳空间；
15、所述第一容纳空间至少与所述发射线圈适配；
16、所述发射线圈的正射投影和所述电路板的正射投影不重叠。
17、进一步的，所述电路板为柔性电路板。
18、进一步的，所述壳体包括：
19、上盖；
20、下盖，所述下盖与所述上盖卡接，所述下盖设置在所述发射线圈朝向所述接收线圈的一侧，所述下盖具有与所述用户颅骨相匹配的曲面结构。
21、进一步的，所述下盖上具有凹槽，所述凹槽的几何中心的正射投影与所述发射线圈的几何中心的正射投影重叠，所述凹槽与所述植入式设备相匹配。
22、进一步的，所述下盖的厚度小于等于2mm。
23、另一方面，本专利技术介绍一种充电系统，所述充电系统包括：
24、植入式设备，所述植入式设备用于植入用户颅骨；
25、充电器，所述充电器用于为所述植入式设备充电。
26、与现有技术相比，本专利技术的有益效果至少包括：
27、由于接收线圈具有与人头盖骨弧度匹配的曲面结构，采用适配于人头盖骨弧度的发射线圈，能够更好地匹配人头盖骨的弧度以及神经刺激器的形状，使得在接收区域内，接收线圈表面到发射线圈表面的距离处处相等，从而提高接收区域内的磁通变化量，提高发射线圈和接收线圈之间的耦合系数，提高接收线圈感应电压和电流，从而实现充电效率的提高。此外，弧形的发射线圈产生的磁场更聚集集中至发射线圈的内弧面，进一步提高了充电器的充电效率。
28、进一步的，采用适配于人头盖骨弧度的发射线圈，不仅能够提高充电效率，还能够增加用户的舒适度，使得充电器在使用过程中能够更好地适应头部轮廓，减少不适感和压迫感。
29、进一步的，综合考虑了接收线圈大小、充电器的重量、容错偏移量以及头盖骨的大小，将发射线圈1的最大横切面的弧长设置为大于等于80mm，确保了发射线圈1与植入式设备的接收线圈之间有足够的接触面积，从而提高了充电效率和稳定性。
30、进一步的，考虑到不同植入式设备的尺寸、不同人头盖骨的差异，本领域技术人员能够在60mm-100mm的范围内调整最大横切面的半径，既保证了发射线圈的覆盖范围，又避免了发射线圈的弧角过大或过小对使用者造成的不便。
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1.一种充电器，其特征在于，用于为植入式设备充电，所述植入式设备用于植入至用户颅骨，所述植入式设备包括接收线圈，所述充电器包括：
2.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，所述发射线圈(1)包括至少一层由导线缠绕形成的面状结构，所述面状结构为弧面设置。
3.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，所述发射线圈(1)的最大横切面的弧或弦的长度大于等于80mm，所述发射线圈(1)的最大横切面的半径大于等于60mm，且小于等于100mm。
4.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，所述发射线圈(1)的均匀区的半径不超过所述接收线圈的半径与预设容错偏移量之和。
5.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，所述发射线圈(1)的均匀区的场强差最大值与场强平均值的比值不超过0.3。
6.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，所述发射线圈(1)的面积与所述接收线圈的面积的比值范围在8-20之间。
7.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，所述发射线圈(1)的正射投影形状为圆形或椭圆形，所述发射线圈(1)的最大横切面的
8.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，还包括：
9.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，还包括壳体(4)和电路板(2)；
10.根据权利要求9所述的充电器，其特征在于，所述电路板(2)为柔性电路板。
11.根据权利要求9所述的充电器，其特征在于，所述壳体(4)包括：
12.根据权利要求11所述的充电器，所述下盖(42)上具有凹槽(421)，所述凹槽(421)的几何中心的正射投影与所述发射线圈(1)的几何中心的正射投影重叠，所述凹槽(421)与所述植入式设备相匹配。
13.根据权利要求11所述的充电器，所述下盖(42)的厚度小于等于2mm。
14.一种充电系统，其特征在于，所述充电系统包括：
...【技术特征摘要】
1.一种充电器，其特征在于，用于为植入式设备充电，所述植入式设备用于植入至用户颅骨，所述植入式设备包括接收线圈，所述充电器包括：
2.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，所述发射线圈(1)包括至少一层由导线缠绕形成的面状结构，所述面状结构为弧面设置。
3.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，所述发射线圈(1)的最大横切面的弧或弦的长度大于等于80mm，所述发射线圈(1)的最大横切面的半径大于等于60mm，且小于等于100mm。
4.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，所述发射线圈(1)的均匀区的半径不超过所述接收线圈的半径与预设容错偏移量之和。
5.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，所述发射线圈(1)的均匀区的场强差最大值与场强平均值的比值不超过0.3。
6.根据权利要求1所述的充电器，其特征在于，所述发射线圈(1)的面积与所述接收线圈的面积的比值范围在8-20之间。
【专利技术属性】
技术研发人员：陆治勇，于亦刚，朱为然，
申请(专利权)人：景昱医疗科技苏州股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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