【技术实现步骤摘要】
本技术涉及pvd电弧涂层机，尤其涉及一种pvd电弧涂层机的磁场调节装置。
技术介绍
1、阴极电弧镀膜是物理气相沉积(physical vapor deposition，pvd)领域的重要方式，作为阴极的靶材附近引发了气体电弧放电，将靶材气化电离，形成等离子体，然后采用磁场将控制和引导等离子体的移动，在待镀工件直接沉积或反应沉积所需要的涂层。该技术被广泛用于先进制造业中工模具的表面处理。
2、pvd电弧涂层机的蒸发源为多弧靶、其安装在阴极座上，阴极座中安装有磁体，通过磁铁的磁场分布来控制等离子体的移动。
3、现有技术的pvd电弧涂层机中，阴极座中通常使用单一类型的磁场配置，，无法根据具体的镀膜场景来调整磁场的分布，从而导致涂层均匀性不佳以及只能适用于单一应用场景。
技术实现思路
1、本技术提供一种pvd电弧涂层机的磁场调节装置，旨在解决解决现有技术中pvd电弧涂层机只能面对单一应用场景和涂层均匀性差的技术问题。
2、本技术是这样实现的，一种pvd电弧涂层机...
【技术保护点】
1.一种PVD电弧涂层机的磁场调节装置，其特征在于，包括阴极座、设置于所述阴极座上的靶材以及设置于所述阴极座内的磁场调节机构，所述磁场调节机构上设置有多个不同规格的磁铁安装孔，所述磁铁安装孔用于安装相应规格的磁铁。
2.如权利要求1所述的PVD电弧涂层机的磁场调节装置，其特征在于，所述磁场调节机构为圆形，围绕其圆心设置有多组围成一圈且均匀分布的磁铁安装孔，同一组磁铁安装孔的规格相同，且在远离圆心的方向上，每一组磁铁安装孔的直径逐渐减小。
3.如权利要求2所述的PVD电弧涂层机的磁场调节装置，其特征在于，所述磁场调节机构的圆心设置有一个最大的磁铁
【技术特征摘要】
1.一种pvd电弧涂层机的磁场调节装置，其特征在于，包括阴极座、设置于所述阴极座上的靶材以及设置于所述阴极座内的磁场调节机构，所述磁场调节机构上设置有多个不同规格的磁铁安装孔，所述磁铁安装孔用于安装相应规格的磁铁。
2.如权利要求1所述的pvd电弧涂层机的磁场调节装置，其特征在于，所述磁场调节机构为圆形，围绕其圆心设置有多组围成一圈且均匀分布的磁铁安装孔，同一组磁铁安装孔的规格相同，且在远离圆心的方向上，每一组磁铁安装孔的直径逐渐减小。
3.如权利要求2所...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭光宇，郭丰铭，
申请(专利权)人：瑞士纳米技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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