【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于拉曼光谱,具体涉及模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构sers基底的方法。
技术介绍
1、表面增强拉曼散射(sers)光谱因其在指纹识别、超快响应速度、超强抗干扰能力、超高分辨率等方面的突出特性而备受关注。有序结构的sers基底能够在空间上实现对纳米材料的精确调控,形成均匀分布的高效热点结构,使得基底兼具优异的灵敏度和均匀性。有序sers基底的制备方法主要包括光刻法、模板法等。其中,光刻法制备过程复杂,制备周期较长且设备昂贵,成本很高。模板法虽然制备工艺简单,但是模板中只有一种微观结构,因此只能构建一级微纳结构。此外,常用的硅模板、aao模板等都是刚性材料,直接基于模板获得的硬质sers基底在检测固体样品时需要萃取等复杂的操作过程,应用范围受限。
2、聚二甲基硅氧烷(pdms)是常用的柔性衬底材料,由于其优良的柔韧性和透明度,基于pdms的sers基底可以通过直接贴附的方式实现目标被检物的原位快速检测,极大地拓展了sers技术的应用范围。通过复制工艺可以将模板的表面结构转移至pdms表面。此外基于pdms良好的弹性
...【技术保护点】
1.模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构SERS基底的方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构SERS基底的方法,其特征在于,步骤(1)中,硅模板的型号为Patttern 60;所述清洁为依次用丙酮、异丙醇和超纯水分别超声清洗10min、3min和5min,氮气吹干。
3.根据权利要求1所述的模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构SERS基底的方法,其特征在于,步骤(1)中,所述置于真空干燥环境的时间为30min。
4.根据权利要求1所述的模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构SERS基底的方法,其
...【技术特征摘要】
1.模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构sers基底的方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构sers基底的方法,其特征在于,步骤(1)中,硅模板的型号为patttern 60;所述清洁为依次用丙酮、异丙醇和超纯水分别超声清洗10min、3min和5min,氮气吹干。
3.根据权利要求1所述的模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构sers基底的方法,其特征在于,步骤(1)中,所述置于真空干燥环境的时间为30min。
4.根据权利要求1所述的模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构sers基底的方法,其特征在于,步骤(2)中,所述pdms混合液为pdms预聚体和固化剂质量比为10:1的混合液。
5.根据权利要求1所述的模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构sers基底的方法,其特征在于,步骤(2)中,所述固化为在温...
【专利技术属性】
技术研发人员:王超男,何梦琪,吴昊,曹诗婷,赵小芳,
申请(专利权)人:南通大学,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。