【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及树脂膜、石墨片及它们的制造方法。
技术介绍
1、石墨片具有优异的热传导性,因此可以作为散热部件来用于计算机等各种电子设备或电气设备中所安装的半导体元件及其他发热部件等。
2、作为制造这样的石墨片的方法,已知有在非活性气体中例如以2400℃以上的高温对聚酰亚胺膜进行热处理来使构成该聚酰亚胺膜的聚酰亚胺发生碳化/石墨化(即黑铅化)后,任意地进行压延处理的方法。
3、另外,近年来,与膜厚(厚度)较小的石墨片相比,在热容量方面具有优势的膜厚较大的石墨片的需求增大。其中,作为制造膜厚较大的石墨片的方法,例如已知有使用由2层以上的聚酰亚胺膜层叠而形成的层叠聚酰亚胺膜作为原料的方法(参照专利文献1及2等)。
4、作为一般的聚酰亚胺膜的制造方法,已知有以下的(1)及(2)所示的方法。
5、(1)将含有作为聚酰亚胺前体的聚酰胺酸及溶剂的溶液成形成膜状而得到聚酰胺酸的层。对所述聚酰胺酸的层进行加热处理,从而使该聚酰胺酸脱环以及脱除该聚酰胺酸的层的溶剂,由此得到聚酰亚胺膜(所谓的“热固化”)。
...【技术保护点】
1.一种树脂膜,
2.根据权利要求1所述的树脂膜,其中,
3.根据权利要求1所述的树脂膜,其中,
4.根据权利要求1所述的树脂膜,其中,
5.根据权利要求2所述的树脂膜,其中,
6.一种石墨片,其以权利要求1~5中任一项所述的树脂膜为原料。
7.根据权利要求6所述的石墨片,其热扩散率是4.0cm2/s以上。
8.根据权利要求6所述的石墨片,其厚度是15μm以上。
9.根据权利要求6所述的石墨片,其密度是1.8g/cm3以上。
10.一种石墨片的制造方法,其包括以
...【技术特征摘要】
1.一种树脂膜,
2.根据权利要求1所述的树脂膜,其中,
3.根据权利要求1所述的树脂膜,其中,
4.根据权利要求1所述的树脂膜,其中,
5.根据权利要求2所述的树脂膜,其中,
6.一种石墨片,其以权利要求1~5中任一项所述的树脂膜为原料。
7.根据权利要求6所述的石墨片,其热...
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