掩膜条和掩膜装置制造方法及图纸

技术编号:41749698 阅读:31 留言:0更新日期:2024-06-21 21:34
本申请公开了一种掩膜条和掩膜装置,掩膜条包括本体部,本体部包括两个连接端,两个连接端沿第一方向排列,本体部还包括蒸镀区组,蒸镀区组的数量至少为两个,蒸镀区组位于两个连接端之间,且蒸镀区组包括至少一个蒸镀区,至少部分蒸镀区的形状不同,每个蒸镀区内包括多个蒸镀开口,蒸镀区内蒸镀开口的数量密度为预设密度,沿第一方向靠近掩膜条中间位置的蒸镀区组内任意蒸镀区的预设密度大于远离中间位置的蒸镀区组内任意蒸镀区的预设密度。该掩膜条内包括不同规格的蒸镀区,且各位置受力均匀性强,张网质量佳。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于显示,尤其涉及一种掩膜条和掩膜装置


技术介绍

1、随着显示技术的发展,对显示设备的性能要求越来越高。现阶段oled显示设备中的子像素均采用掩膜板蒸镀方式进行。

2、但是,现有的蒸镀掩膜板无法实现蒸镀产品的多样性。


技术实现思路

1、本申请实施例提供了一种掩膜条和掩膜装置,该掩膜条内包括不同规格的蒸镀区,且各位置受力均匀性强,张网质量佳。

2、本申请实施例第一方面的实施例提供了一种掩膜条,包括本体部,所述本体部包括两个连接端,两个所述连接端沿第一方向排列,所述本体部还包括蒸镀区组,所述蒸镀区组的数量至少为两个,所述蒸镀区组位于两个所述连接端之间,且所述蒸镀区组包括至少一个蒸镀区,至少部分所述蒸镀区的形状不同,每个所述蒸镀区内包括多个蒸镀开口,所述蒸镀区内所述蒸镀开口的数量密度为预设密度,沿第一方向靠近所述掩膜条中间位置的所述蒸镀区组内任意蒸镀区的所述预设密度大于远离所述中间位置的所述蒸镀区组内任意蒸镀区的所述预设密度。

3、根据本专利技术第一方面的实施方式,沿所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种掩膜条,其特征在于,包括本体部,所述本体部包括两个连接端,两个所述连接端沿第一方向排列,所述本体部还包括蒸镀区组,所述蒸镀区组的数量至少为两个,所述蒸镀区组位于两个所述连接端之间,且所述蒸镀区组包括至少一个蒸镀区,至少部分所述蒸镀区的形状不同,每个所述蒸镀区内包括多个蒸镀开口,所述蒸镀区内所述蒸镀开口的数量密度为预设密度,沿第一方向靠近所述掩膜条中间位置的所述蒸镀区组内任意蒸镀区的所述预设密度大于远离所述中间位置的所述蒸镀区组内任意蒸镀区的所述预设密度。

2.根据权利要求1所述的掩膜条,其特征在于,沿所述第一方向且沿靠近所述掩膜条中间位置向远离所述掩膜条中间位置的方向...

【技术特征摘要】

1.一种掩膜条,其特征在于,包括本体部,所述本体部包括两个连接端,两个所述连接端沿第一方向排列,所述本体部还包括蒸镀区组,所述蒸镀区组的数量至少为两个,所述蒸镀区组位于两个所述连接端之间,且所述蒸镀区组包括至少一个蒸镀区,至少部分所述蒸镀区的形状不同,每个所述蒸镀区内包括多个蒸镀开口,所述蒸镀区内所述蒸镀开口的数量密度为预设密度,沿第一方向靠近所述掩膜条中间位置的所述蒸镀区组内任意蒸镀区的所述预设密度大于远离所述中间位置的所述蒸镀区组内任意蒸镀区的所述预设密度。

2.根据权利要求1所述的掩膜条,其特征在于,沿所述第一方向且沿靠近所述掩膜条中间位置向远离所述掩膜条中间位置的方向,所述蒸镀区内所述蒸镀开口的预设密度逐渐降低;

3.根据权利要求1所述的掩膜条,其特征在于,所述掩膜条包括平行于第一方向的对称轴,所述蒸镀开口沿所述对称轴对称。

4.根据权利要求3所述的掩膜条,其特征在于,所述蒸镀区组包括多个沿第二方向排列的蒸镀区,所述第二方向垂直于所述第一方向,所述蒸镀区组内各所述蒸镀区的所述预设密度相同;或者,

5.根据权利要求1所述的掩膜条,其特征在于,所述本体部还包括过渡区,所述过渡区围绕所述蒸镀区;所述过渡区包括开口区,所述开口区包括位于沿第一方向相邻的所述蒸镀区之间的第一开口区以及位于沿垂直于所述第一方向...

【专利技术属性】
技术研发人员:韩冰陈闯李伟丽邱岳李文星
申请(专利权)人:昆山国显光电有限公司
类型:发明
国别省市:

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