【技术实现步骤摘要】
本技术涉及微流控芯片模具制备，特别涉及一种微流控芯片模具制备用光刻机。
技术介绍
1、光刻机是半导体工业中至关重要的设备，它在集成电路制造过程中起着关键作用，通过将电路图案转移到硅片上，光刻技术实现了微米甚至纳米级别的精细加工。
2、中国专利cn213814291u提出了一种用于半导体芯片生产的光刻机，包括光刻机本体，所述光刻机本体的内部安装有物镜，所述物镜的内部安装有工作管套。该用于半导体芯片生产的光刻机，通过设置冷却仓、导热管、抽风机和半导体制冷片，冷却仓中通入其容积四分之三的冷却水，由于水的含量较多，且由于水比热容的原因，冷却仓中的水不会被很快加热到很高的温度，使得冷却仓中的水对工作管套起到了绝对的保护作用，避免了工作管套升温过快的情况，且导热管的两端面积较大，通过半导体制冷片不断地给导热管降温，解决了当前采用水冷管冷却不能有效的防止物镜的工作区域升温过快，温度过高的问题。
3、上述方案解决了当前采用水冷管冷却不能有效的防止物镜的工作区域升温过快，温度过高的问题，但是上述方案不能对不同尺寸的微流控芯片模具进...
【技术保护点】
1.一种微流控芯片模具制备用光刻机，其特征在于，包括光刻机本体(1)，所述光刻机本体(1)的一侧固定安装有操作面板(2)，所述操作面板(2)的下方且位于光刻机本体(1)的内部活动安装有数台(3)，所述光刻机本体(1)的内部固定安装有双向电动伸缩杆(4)，两个所述双向电动伸缩杆(4)的两端固定安装有滑动块(5)，两个所述滑动块(5)的顶部转动连接有按压板(6)，所述按压板(6)延伸至数台(3)的顶部，所述数台(3)的外端对称开设有凹槽(7)，所述按压板(6)贯穿凹槽(7)。
2.根据权利要求1所述的一种微流控芯片模具制备用光刻机，其特征在于，所述操作面板(2...
【技术特征摘要】
1.一种微流控芯片模具制备用光刻机，其特征在于，包括光刻机本体(1)，所述光刻机本体(1)的一侧固定安装有操作面板(2)，所述操作面板(2)的下方且位于光刻机本体(1)的内部活动安装有数台(3)，所述光刻机本体(1)的内部固定安装有双向电动伸缩杆(4)，两个所述双向电动伸缩杆(4)的两端固定安装有滑动块(5)，两个所述滑动块(5)的顶部转动连接有按压板(6)，所述按压板(6)延伸至数台(3)的顶部，所述数台(3)的外端对称开设有凹槽(7)，所述按压板(6)贯穿凹槽(7)。
2.根据权利要求1所述的一种微流控芯片模具制备用光刻机，其特征在于，所述操作面板(2)的外端设置有加固组件(8)，所述光刻机本体(1)的另一侧固定安装有连接口(9)，所述连接口(9)的内部活动安装有连接器(10)。
3.根据权利要求2所述的一种微流控芯片模具制备用光刻机，其特征在于，所述连接口(9)的内部设置有防松动组件(11)，所述光刻机本体(1)的一侧开设有滑动槽(12)，所述连接口(9)的前方且位于数台(3)的一侧固定...
【专利技术属性】
技术研发人员：周智君，吴焕，朱彦艳，
申请(专利权)人：顶旭苏州微控技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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