【技术实现步骤摘要】
本专利技术构思的实现方式大体上涉及颜色转换衬底和包括该颜色转换衬底的显示装置。
技术介绍
1、显示装置中可以形成各种图案。光刻技术可以用于形成这些图案。具体而言,光刻技术包括沉积膜、在膜上涂覆光致抗蚀剂、使用掩模曝光光致抗蚀剂、对曝光的光致抗蚀剂进行显影以形成光致抗蚀剂图案以及测试光致抗蚀剂图案的对准等。
2、随着显示装置尺寸的增加,可以使用通过将显示装置分成多个拍摄区域来重复曝光光致抗蚀剂的方法。然而,在拍摄区域的边界处可能出现诸如移位、旋转和变形的拼接误差(或临界尺寸误差)。在出现拼接误差的情况下,在显示装置上可以识别到拼接污迹。
技术实现思路
1、实施方式提供一种具有改善的显示质量的颜色转换衬底。
2、实施方式提供一种包括颜色转换衬底的显示装置。
3、然而,本公开的实施方式不限于本文中所阐述的实施方式。通过参考下面给出的本公开的详细描述,对于本公开所属领域中的普通技术人员来说,上述和其他实施方式将变得更加显而易见。
4、根据实施方式的颜
...【技术保护点】
1.颜色转换衬底,包括:
2.根据权利要求1所述的颜色转换衬底,其中,暴露所述第二滤色器的开口由所述第一滤色器和所述第三滤色器中的在所述第一区域和所述第二区域之间具有较小拼接误差的一个限定。
3.根据权利要求1所述的颜色转换衬底,其中,暴露所述第三滤色器的开口由所述第一滤色器和所述第二滤色器中的在所述第一区域和所述第二区域之间具有较小拼接误差的一个限定。
4.根据权利要求1所述的颜色转换衬底,其中,
5.根据权利要求4所述的颜色转换衬底,其中,
6.根据权利要求5所述的颜色转换衬底,其中,
7.根
...【技术特征摘要】
1.颜色转换衬底,包括:
2.根据权利要求1所述的颜色转换衬底,其中,暴露所述第二滤色器的开口由所述第一滤色器和所述第三滤色器中的在所述第一区域和所述第二区域之间具有较小拼接误差的一个限定。
3.根据权利要求1所述的颜色转换衬底,其中,暴露所述第三滤色器的开口由所述第一滤色器和所述第二滤色器中的在所述第一区域和所述第二区域之间具有较小拼接误差的一个限定。
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【专利技术属性】
技术研发人员:徐昇喜,郑淳铎,朴贤培,宋慧璘,林泰佑,崔汶根,
申请(专利权)人:三星显示有限公司,
类型:发明
国别省市:
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