基于poly叠层优化的TOPCon电池制备方法技术

技术编号:41740072 阅读:31 留言:0更新日期:2024-06-19 12:59
本发明专利技术公开了基于poly叠层优化的TOPCon电池制备方法,涉及电池制备领域,包括S1、制备第一隧穿氧化层;S2、在第一隧穿氧化层上制备第一非晶硅层;S3、在第一非晶硅层上制备第二隧穿氧化层;S4、在第二隧穿氧化层上制备第二非晶硅层;S5、在第二非晶硅层上制备第三非晶硅层;S6、在第三非晶硅层上制备Mask保护层;S7、高温退火并去除Mask保护层;S8、在第三非晶硅层上制备氮化硅减反层;S9、在氮化硅减反层上印刷银浆;通过本方法制作TOPCon电池,第二隧穿氧化层、第二非晶硅层和第三非晶硅层不需要进行任何去除动作,同时本方法采用全面隧穿及非晶硅方式,实现了与产线设备100%的兼容,无需新增任何设备,降低成本的同时还可以实现效率的提升。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电池制备领域,尤其涉及一种基于poly叠层优化的topcon电池制备方法。


技术介绍

1、随着太阳能电池技术的快速发展,隧穿氧化层钝化接触(tunnel oxidepassivated contact solar cell,topcon)电池技术凭其优异的钝化性能和技术兼容性等优势,获得了当前市场的青睐。topcon电池的特点在于表面采用了超薄氧化硅和掺杂多晶硅poly的结构。其中隧穿氧化层钝化接触结构能够使得多数载流子穿透氧化层,对少数载流子起阻挡作用,能有效地实现了载流子的选择性通过,从而极大地降低了少数载流子的复合速率,提高电池性能。非晶硅的采用不仅可以钝化si-sio2界面,同时因为隧穿结构使得银电极ag和掺杂非晶硅接触(退火后非晶硅会晶化)即可,而不需要和c-si接触,从而进一步减少接触电阻。正是因为这种独特的结构,使得隧穿氧化钝化电池topcon的开路电压uoc和填充因子ff较上一代发射极背面钝化电池prec有明显优势,从而效率有明显优势。

2、但上述结构中也存在着一定的问题制约了其效率的进一步提升。从接触角度考虑,非本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.基于poly叠层优化的TOPCon电池制备方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的基于poly叠层优化的TOPCon电池制备方法,其特征在于,在S1-S6中,炉管内的温度范围为400-450℃,功率范围为10000-15000W。

3.根据权利要求1所述的基于poly叠层优化的TOPCon电池制备方法,其特征在于,在S1中,一氧化二氮的流量体积范围为5000-2000sccm,氧化时间范围为80-120s,进行第一隧穿氧化层的氧化。

4.根据权利要求1所述的基于poly叠层优化的TOPCon电池制备方法,其特征在于,在S2中,硅烷的流量体...

【技术特征摘要】

1.基于poly叠层优化的topcon电池制备方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的基于poly叠层优化的topcon电池制备方法,其特征在于,在s1-s6中,炉管内的温度范围为400-450℃,功率范围为10000-15000w。

3.根据权利要求1所述的基于poly叠层优化的topcon电池制备方法,其特征在于,在s1中,一氧化二氮的流量体积范围为5000-2000sccm,氧化时间范围为80-120s,进行第一隧穿氧化层的氧化。

4.根据权利要求1所述的基于poly叠层优化的topcon电池制备方法,其特征在于,在s2中,硅烷的流量体积范围为2000-5000sccm,磷烷的流量体积范围为300-500sccm,氢气的流量体积范围为8000-12000sccm,沉积反应时间为100-300s;在s4中,硅烷的流量体积范围为2000-5000sccm,磷烷的流量体积范围为600-800sccm,氢气的流量体积范围为8000-12000sccm,沉积反应时间为100-300s;在s5中,硅烷的流量体积范围为2000-5000sccm,磷烷的流量体积范围为800-900sccm,氢气的流量体积范围为8000-12000sccm,沉积反应时间为250-450s。

5.根据权利要求1所述的基于poly叠层优化的...

【专利技术属性】
技术研发人员:袁正国谢耀辉何佳龙黄菊梅
申请(专利权)人:和光同程光伏科技宜宾有限公司
类型:发明
国别省市:

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