2－杂芳基吡啶化合物的制造方法技术

本发明专利技术提供一种式(3)表示的化合物的制造方法、以及式(4)表示的化合物的制造方法等，所述式(3)表示的化合物的制造方法包括：使式(1)表示的化合物与式(2)表示的化合物在金属醇盐或者碱的存在下进行化学反应，所述式(4)表示的化合物的制造方法包括：使式(3)表示的化合物与羟胺或其盐进行化学反应、以及使上述化学反应的产物进行脱水反应。在式(1)中，Q表示取代或无取代的五～六元或九～十元杂芳基，R1表示C1～6烷基。在式(2)中，R2表示氢原子、取代或无取代的C1～6烷基、取代或无取代的C3～6环烷基、取代或无取代的苯基、或者取代或无取代的五～六元杂芳基。在式(3)中，Q、R1和R2表示与式(1)中和式(2)中的Q、R1和R2相同的基团。在式(4)中，Q、R1和R2表示与式(3)中的Q、R1和R2相同的基团。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种2－杂芳基吡啶化合物的制造方法。

技术介绍

1、含氮杂环是构成作为医药和农药的原药的化合物的主要部分结构(分子砌块)。近年来，正在积极进行具有吡啶环的有害节肢动物防除剂的开发。例如，专利文献1～5中记载了一种具有五元杂芳基和含硫烃基的吡啶化合物。

2、另外，非专利文献1公开了如下内容：通过2－氯－n,n－二甲基氨基三亚甲六氟磷酸盐与苯乙酸甲酯和3－甲氧基－3－氧代丙酸的反应来制造3－苯基－5－氯－2－吡啶酮(4g)和3－羟基羰基－5－氯－2－吡啶酮(4h)。

3、

4、专利文献6公开了基于下述方案的吡啶环的构建方法。

5、

6、上述方案中，q表示吡啶基等，r1表示可以具有1个以上卤素原子的c1～c6烷基，r2表示可以具有1个以上卤素原子的c1～c6烷基等，r3、r4和r5表示氢原子等，n表示0等。

7、现有技术文献

8、专利文献

9、专利文献1：wo 2017/016910a

10、专利文献2：wo 2017/050685a

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【技术保护点】

1.一种式(3)表示的化合物的制造方法，包括：使式(1)表示的化合物与式(2)表示的化合物在金属醇盐或者碱的存在下进行化学反应，

2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，式(1)和式(3)中的Q为式(5)表示的基团，

3.一种式(4)表示的化合物的制造方法，包括：

4.一种式(4)表示的化合物的制造方法，包括：

5.根据权利要求3或4所述的制造方法，其中，式(3)和式(4)中的Q为式(5)表示的基团，

6.一种式(3a)表示的化合物，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种式(3)表示的化合物的制造方法，包括：使式(1)表示的化合物与式(2)表示的化合物在金属醇盐或者碱的存在下进行化学反应，

2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，式(1)和式(3)中的q为式(5)表示的基团，

3.一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林真一，松田浩一，
申请(专利权)人：日本曹达株式会社，
类型：发明
国别省市：