一种基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法技术

技术编号:41726492 阅读:26 留言:0更新日期:2024-06-19 12:49
本发明专利技术涉及光电器件制备技术领域,具体涉及一种基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法,针对在蒸镀或溅射微纳器件金属电极时金属掩膜版无法对准和固定在指定位置的问题,使用紫外激光在金属薄片上加工微纳器件所需的图案形成掩膜版,再使用PDMS拾取金属薄片掩膜版,固定后的金属薄片与PDMS通过施加一个微弱的力即可无损分离,拾取过程不易形变和脱离,对衬底材料损伤小;在掩膜薄片对准过程中,上方掩膜版采用XYZ位移平台,下方衬底采用XYR位移平台,CCD相机辅助观察对准,掩膜版与衬底对准和贴合后再滴加PDMS固定,使掩膜版与衬底贴合紧密不易移位,减少电极蒸镀误差,使实际电极间距最接近掩膜版的电极间距。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光电器件制备,具体涉及一种基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法


技术介绍

1、光电探测器是光电器件之一,是一种能够将入射的光转换成电信号的器件,其在通信、网络、工业和军事等领域中扮演着重要角色。单色探测器是基于单一带隙材料的光电探测器件,多色探测器是需要在单个芯片上集成不同带隙材料的光电器件。由阵列式纳米材料组成的多色探测器不仅可以提高器件的有效探测范围,还可以对不同波长的光进行选择性探测。金属电极的制备是光电器件制作的必备流程之一。大部分半导体材料的金属电极制备可通过传统的光刻工艺来实现,而部分半导体材料如:钙钛矿等,因材料易溶于有机溶剂的特性,无法在材料上进行光刻工艺。对此,常见的钙钛矿光电器件的金属电极制备方法有两种:第一种方法是首先通过光刻、蒸镀和剥离工艺在衬底上制备金属电极,然后将钙钛矿材料放置在电极上,这种方法易实现微纳器件的制备,但是电极与半导体材料之间的接触差,材料在轻微振动下容易移动;第二种方法是首先将钙钛矿材料放置在衬底上,然后通过掩膜遮罩的方法蒸镀金属电极,金属电极覆压半导体材料于衬底上,这种方法的优点是电极接触好本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法,其特征在于,包括下列步骤:

2.如权利要求1所述的基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法,其特征在于,

3.如权利要求2所述的基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法,其特征在于,

4.如权利要求3所述的基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法,其特征在于,

5.如权利要求4所述的基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法,其特征在于,

6.如权利要求5所述的基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法,其特征在于,

7.如权利要求6所述的基于紫外激光加工掩膜制备多色探测...

【技术特征摘要】

1.一种基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法,其特征在于,包括下列步骤:

2.如权利要求1所述的基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法,其特征在于,

3.如权利要求2所述的基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法,其特征在于,

4.如权利要求3所述的基于紫外激光加工掩膜制备多色探测器的方法,其特征在于,

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【专利技术属性】
技术研发人员:刘林生黄兰清陆杭林刘兴鹏宋树祥苏检德宋卓姚欣良李卓峰
申请(专利权)人:广西师范大学
类型:发明
国别省市:

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