具备2个位置检测器的装置以及物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及具备2个位置检测器的装置以及物品制造方法。装置具备：第1位置检测器，用于检测第1构件的第1检测对象的位置；以及第2位置检测器，用于检测与所述第1构件对置配置的第2构件的第2检测对象的位置。所述第1位置检测器能够包括第1图像传感器和在所述第1图像传感器的摄像面形成所述第1检测对象的像的第1光学系统。所述第2位置检测器能够包括第2图像传感器和在所述第2图像传感器的摄像面形成所述第2检测对象的像的第2光学系统。所述第1位置检测器和所述第2位置检测器能够构成为能利用所述第2图像传感器经由所述第1光学系统和所述第2光学系统拍摄所述第1图像传感器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具备2个位置检测器的装置以及物品制造方法。

技术介绍

1、在日本特许第5600952号公报中记载有一种位置检测装置。位置检测装置具备下基准观察器和上基准观察器。在位置检测装置中进行光轴调整的情况下，在下基准观察器与上基准观察器之间设置扩散板，将调整用指标投影到扩散板。投影到扩散板的调整用指标被上基准观察器的摄像部和下基准观察器的摄像部拍摄。

2、在专利文献1所记载的位置检测装置中，为了调整光轴而需要在下基准观察器与上基准观察器之间配置扩散板，并向扩散板投影指标，因此位置检测装置的结构可能变得复杂。

技术实现思路

1、本专利技术提供一种对2个位置检测器的相对位置的检测有利的技术。

2、本专利技术的1个方面涉及一种装置，具有：第1位置检测器，用于检测第1构件的第1检测对象的位置；以及第2位置检测器，用于检测与所述第1构件对置配置的第2构件的第2检测对象的位置。所述第1位置检测器能够包括第1图像传感器和在所述第1图像传感器的摄像面形成所述第1检测对象的像的第1光学系统。所述第2本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种装置，其特征在于，该装置具备：

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，

10.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，

11.根据权利要求10所述的装置，其...

【技术特征摘要】

1.一种装置，其特征在于，该装置具备：

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉田宏二，伊藤正裕，川原信途，山口聖二，西川原朋史，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：