一种不锈钢衬底的精密抛光方法技术

本发明专利技术涉及一种不锈钢衬底的精密抛光方法，包括：按比例配制抛光液；将待抛光的不锈钢衬底５固定于抛光头４底部，加压装置７将抛光头４作用于抛光台６上，并且抛光台６、抛光头４在转动装置带动下旋转，同时抛光液２被输送至抛光垫１表面，使抛光液２、抛光垫１及不锈钢衬底５三者充分接触；将不锈钢衬底５表面进行化学机械抛光至表面完全成镜面，立即清洗即可。经本发明专利技术抛光后的不锈钢衬底，其表面平整光滑，均方根粗糙度仅０．７纳米，克服了其他抛光方法所无法满足的平坦度及粗糙度的要求。

Stainless steel substrate precise polishing method

Including precision polishing method, the invention relates to a stainless steel substrate: polishing solution prepared according to proportion; be polished stainless steel substrate 5 is fixed on the bottom of the polishing head 4, pressurizing device 7 will act on the polishing polishing head 4 Taiwan 6, 6 Taiwan, and polishing the polishing head 4 in rotating device driven by rotation. At the same time, the polishing liquid 2 is transported to the polishing pad 1 surface, the polishing liquid full contact 2, 1 and 5 stainless steel polishing pad substrate three; 5 stainless steel substrate surface chemical mechanical polishing to the surface completely into the mirror, wash immediately. The stainless steel substrate polished by the invention has smooth and smooth surface, and the root mean square roughness is only 0.7 nanometers, and overcomes the requirement of flatness and roughness that other polishing methods can not satisfy.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属柔性半导体器件衬底的抛光领域，特别是涉及。
技术介绍
随着现代生活水平的提高，公众对电子产品需求越来越多样化，对产品要求小型、轻 便、多功能集成。薄膜晶体管(TFT)是多种数码产品功能实现的工作单元。目前市场上 存在的电子产品显示屏，例如手机、笔记本电脑、液晶显示器，均为扁平状外观，并正朝 着薄型化方向发展。由于制造显示屏采用了刚性基板衬底，例如玻璃基板或硅衬底，决定 了平板显示屏柔韧性差，无法或很难弯曲；刚性基板绝大多数是脆性材料，假如受外力冲 击或重力落地后，显示屏非常容易碎裂，遭到破坏。为制造柔韧性强可弯曲并且不易碎裂 的显示屏，必须采用柔韧性衬底代替玻璃衬底。此外，随着太阳能技术的兴起和成熟，这 种金属薄片衬底也可应用于薄膜太阳能电池发电领域。为在不锈钢衬底表面制造薄膜晶体管并成功应用于柔性显示技术，首先要求不锈钢衬 底表面非常光滑平整，需要消除不锈钢表面可能存在的凹坑、凸点、划痕、吸附颗粒等表 面缺陷，并且衬底各个部位均要求具有很低的表面粗糙度。因此，作为衬底使用的不锈钢 必须表面抛光。图1和图2分别为初始不锈钢表面的光学形貌图像和电子显微镜图像，可 见许多条本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种不锈钢衬底的精密抛光方法，包括：　（１）抛光液的配制；　（２）将待抛光的不锈钢衬底５固定于抛光头４底部，加压装置７将抛光头４作用于抛光台６上，并且抛光台６、抛光头４在转动装置带动下旋转，同时抛光液２被输送至抛光垫１表面，使抛 光液２、抛光垫１及不锈钢衬底５三者充分接触；　抛光工艺参数：抛光台６转速４０～２００转／分钟；抛光头４转速４０～２００转／分钟，并且抛光头４与抛光台６转速大致相等；不锈钢衬底５作用于抛光垫１表面的下压力为１ｐｓｉ～１０ｐｓｉ（ｐｓｉ为 压强单位：磅／平方英寸）；抛光液２供给流量为２０～２００毫升／分钟；抛光液２温度为室温～沸点温度；　（...

【技术特征摘要】
1.一种不锈钢衬底的精密抛光方法，包括(1)抛光液的配制；(2)将待抛光的不锈钢衬底5固定于抛光头4底部，加压装置7将抛光头4作用于抛光台6上，并且抛光台6、抛光头4在转动装置带动下旋转，同时抛光液2被输送至抛光垫1表面，使抛光液2、抛光垫1及不锈钢衬底5三者充分接触；抛光工艺参数抛光台6转速40～200转/分钟；抛光头4转速40～200转/分钟，并且抛光头4与抛光台6转速大致相等；不锈钢衬底5作用于抛光垫1表面的下压力为1psi～10psi(psi为压强单位磅/平方英寸)；抛光液2供给流量为20～200毫升/分钟；抛光液2温度为室温～沸点温度；(3)将不锈钢衬底5表面化学机械抛光10分钟～60分钟，当不锈钢表面完全成镜面时抛光进程即可终止，随后立即彻底清洗不锈钢抛光片，即可。2. 根据权利要求1所述的一种不锈钢衬底的精密抛光方法，其特征在于所述步骤(1) 中的抛光液的组分为无机纳米颗粒l 20wt°AS 80 99 wt。/。的水。3. 根据权利要求1所述的一种不锈钢衬底的精密抛光方法，其特征在于所述步骤(1)中的抛光液的组分为可溶性化学品0.1 10 wt。/。及90 wt。/。的水。4. 根据权利要求1所述的一种不锈钢衬底的精密抛光方法，其特征在于所述步骤(1)中的抛光液的组分为无机纳米颗粒l 20wt%、可溶性化学品0.1 10wt%S70 98wt% 的水。5. 根据权利要求2 4所述的一种不锈...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡晓凯，宋志棠，刘卫丽，
申请(专利权)人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所，
类型：发明
国别省市：31[]