一种3~5μm波段低损耗硒化物玻璃光纤的制备方法技术

一种3～5μm波段低损耗硒化物玻璃光纤的制备方法，属于玻璃光纤制备技术领域。首先向玻璃中引入微量除氢剂将玻璃中的Se‑H杂质摩尔含量降低至<10ppm，然后通过引入微量氧化剂使玻璃中残余的Se‑H杂质转化为O‑H，将玻璃中Se‑H杂质摩尔含量降低至<1ppm，再配合真空旋管法制备玻璃管，最后通过管棒法制备硒化物玻璃光纤。所制备的光纤在3～5μm波段背景损耗<0.5dB/m，峰值损耗<1dB/m，光纤可应用于3～5μm波段图像传递、分子传感等领域。本发明专利技术高效降低了硒化物玻璃中Se‑H杂质含量；玻璃中未引入Al或Mg等除氧剂，避免额外散射损耗产生；无需对原料进行预提纯，操作较简单，成本较低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于玻璃光纤制备，特别涉及一种3～5μm波段低损耗硒化物玻璃光纤的制备方法。

技术介绍

1、3～5μm中红外波段是大气的一个高透明窗口，是红外搜索和跟踪探测的主要工作波段；该波段还包含了许多气体、化学和生物分子的特征吸收谱线。因此，3～5μm中红外技术在国防安全、环境监测、化学传感、医疗卫生等领域具有重大应用价值。

2、近年来，随着中红外告警技术和高灵敏气体传感技术的发展，急需3～5μm波段低损耗光纤作为轻质柔性中红外光传输材料。例如，中红外告警系统需要在3～5μm波段具有高透过率的光纤传像束作为柔性中红外图像传递元件；痕量ch4、hcl、n2o、so2、co2、co等重要气体分子检测需要在3～5μm波段具有高透过率的光纤作为中红外探测激光传输介质。

3、目前，在3～5μm波段具有较高透过率(或较低传输损耗)的光纤主要有氟化物玻璃光纤、硫化物玻璃光纤和硒化物玻璃光纤。其中，氟化物玻璃的抗析晶热稳定性相对较差，连续拉制几百米无析晶点光纤的难度极大，且氟化物玻璃光纤二次热加工时易析晶，难以满足高分辨率光纤传像束对玻璃抗析晶热稳本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种3～5μm波段低损耗硒化物玻璃光纤的制备方法，其特征在于，包含如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种3～5μm波段低损耗硒化物玻璃光纤的制备方法，其特征在于，所述的硒化物玻璃为As-Se、Ge-As-Se或Ge-Sb-Se玻璃。

3.根据权利要求1所述的一种3～5μm波段低损耗硒化物玻璃光纤的制备方法，其特征在于，所述的石英管的羟基含量<2ppm。

4.根据权利要求1所述的一种3～5μm波段低损耗硒化物玻璃光纤的制备方法，其特征在于，所述的除氢剂为GaCl3或TeCl4，其纯度≥99.99％。

5.根据权利要求1所述的一种3...

【技术特征摘要】

1.一种3～5μm波段低损耗硒化物玻璃光纤的制备方法，其特征在于，包含如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种3～5μm波段低损耗硒化物玻璃光纤的制备方法，其特征在于，所述的硒化物玻璃为as-se、ge-as-se或ge-sb-se玻璃。

3.根据权利要求1所述的一种3～5μm波段低损耗硒化物玻璃光纤的制备方法，其特征在于，所述的石英管的羟基含量<2ppm。

4.根据权利要求1所述的一种3～5μm波段低损耗硒化物玻璃光纤的制备方法，其特征在于，所述的除氢剂为gacl3或tecl4，其纯度≥99.99％。

5.根据权利要求1所述的一种3～5μm波段低损...

【专利技术属性】
技术研发人员：任和，杨志勇，邱天英，祁思胜，张龙，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：