【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体材料制备,尤其涉及一种高通量锰钴镍氧薄膜样品、其制备方法及应用。
技术介绍
1、“材料高通量实验”是在短时间内完成大量样品的制备与表征的实验方法。其核心思想是将传统材料研究中采用的顺序迭代方法改为并行处理,以量变引起材料研究效率的质变。在1970年hanank提出了高通量实验最基本的特征:1)高通量合成制备,即在1次实验中完成多组分目标材料体系制备,使制备具有高效性、系统性和一致性;2)快速分析测试,即采用扫描式、自动化、快速的分析测试技术,原则上1天制备的样品1天内完成测试分析,避免成为瓶颈;3)计算机数据处理输出,即充分利用计算机数据处理和分析功能,以表格、图形等多种形式输出。
2、在此基础上,经过多年发展与演化,形成了新型高通量组合材料的实验流程。它除保持传统特征外,还具有若干重要的新特点,如:1)强调实验设计的重要性,合理的实验设计减少工作量,提高筛选速度和成功率;2)明确材料数据库在流程中的轴心位置,材料数据库兼具实验管理、数据处理、信息存储、数据挖掘等多项功能;3)注重材料计算模拟与实验的互动
...【技术保护点】
1.一种高通量锰钴镍氧薄膜样品的制备方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述第一靶材的材质包括MnO2或金属Mn;
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,至少所述第一靶材或第二靶材为氧化物,和/或所述退火处理在含氧气氛中进行。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述MnO2亚层的沉积速率为沉积时间为160-200s;
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述MnO2亚层、Ni亚层、CoO亚层的循环重复的周期为5-20个周期。
6.根据权利要求1
...【技术特征摘要】
1.一种高通量锰钴镍氧薄膜样品的制备方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述第一靶材的材质包括mno2或金属mn;
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,至少所述第一靶材或第二靶材为氧化物,和/或所述退火处理在含氧气氛中进行。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述mno2亚层的沉积速率为沉积时间为160-200s;
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述mno2亚层、ni亚层、coo亚层的循环重复的周期为5-20个周期...
【专利技术属性】
技术研发人员:宋贺伦,王园园,赵媛媛,朱煜,王荣新,王志鹏,殷志珍,
申请(专利权)人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,
类型:发明
国别省市:
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