一种尺寸自适应的板材双面曝光设备及双面曝光方法技术

本发明专利技术提供了一种尺寸自适应的板材双面曝光设备及双面曝光方法，属于板材曝光领域，板材双面曝光设备包括第一上下料站、第一搬运模组、曝光站、第二搬运模组、第二上下料站；在所述第一搬运模组和第二搬运模组之间设置翻转模组和翻转对接模组；在第一搬运模组、第二搬运模组、翻转模组和翻转对接模组上设置尺寸自动调整机构。本申请的方案可双侧可选的上下料，且移栽机构上设置针对不同尺寸或规格可自动调节的变距机构，设备通用性好，双面曝光效率高，便于在PCB、半导体等需要图形化的领域推广应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于板材曝光领域，具体涉及一种尺寸自适应的板材双面曝光设备及双面曝光方法。

技术介绍

1、板材曝光是板材加工的重要工艺之一，如：pcb(printed circuit board,印刷电路板)是各个电子元器件的重要载体，pcb板的两面需要分别进行曝光，如ldi的激光直写曝光或光刻等。

2、基于需要对pcb板的两面分别进行曝光，因此在完成板材的一面曝光后，需要利用翻转机构将板材进行翻转，以对其另一面进行曝光。现有自动化曝光设备整体尺寸过大，占地面积大，连线动作ct过长，整体产能低。交换板流程复杂需采用两台设备去曝光产品ab两面。而且，传统的双面曝光机，一般针对的板材型号或尺寸是固定的，或者针对几种不同尺寸需要停机手动变距更换相应的拾取或夹紧机构，这无疑导致了设备的通用性变差且效率变低。

技术实现思路

1、为了克服现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种尺寸自适应的板材双面曝光设备及双面曝光方法，其能解决上述问题。

2、设计原理：采用双平台配套单机实现产品ab两面曝光，直接出本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种尺寸自适应的板材双面曝光设备，板材双面曝光设备包括第一上下料站(100)、第一搬运模组(200)、曝光站、第二搬运模组(300)、第二上下料站(600)；其特征在于：

2.根据权利要求1所述的板材双面曝光设备，其特征在于：

3.根据权利要求1所述的板材双面曝光设备，其特征在于：

4.根据权利要求1所述的板材双面曝光设备，其特征在于：

5.根据权利要求4所述的板材双面曝光设备，其特征在于：

6.一种双面曝光方法，其特征在于：双面曝光方法基于权利要求1-5任一项所述的板材双面曝光设备实施，双面曝光方法包括：

【技术特征摘要】

1.一种尺寸自适应的板材双面曝光设备，板材双面曝光设备包括第一上下料站(100)、第一搬运模组(200)、曝光站、第二搬运模组(300)、第二上下料站(600)；其特征在于：

2.根据权利要求1所述的板材双面曝光设备，其特征在于：

3.根据权利要求1所述的板材双面...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏亚菲，张福贵，闻刘勇，冯旭章，祝锁，温延培，
申请(专利权)人：苏州天准科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：