【技术实现步骤摘要】
本技术涉及蚀刻机，具体是蚀刻机冷却环。
技术介绍
1、在半导体制造业中，蚀刻(etch)指在薄膜上雕刻图案。图案使用等离子体喷涂而成，形成每个工艺步骤的最终轮廓。它的主要目的是根据布局完美呈现精确图案，在任何条件下都保持统一一致的结果。蚀刻机冷却环是蚀刻机的重要部件，现有的蚀刻机冷却环在使用时存在着以下问题：
2、1)、定位采用沿蚀刻机冷却环的周向均匀布置的圆孔，存在定位难的问题；
3、2)、现有蚀刻机冷却环上设有若干螺丝孔，螺纹孔失效后需重新攻丝，维护成本高；
4、3)、现有蚀刻机冷却环上的水路较复杂，加工成本较高。
技术实现思路
1、本技术的目的在于解决现有技术中存在的问题，提供一种蚀刻机冷却环，定位更加容易，维护更为方便，减少了加工成本且更容易检修漏水处。
2、本技术为实现上述目的，通过以下技术方案实现：
3、蚀刻机冷却环，包括冷却环本体，在所述冷却环本体的外侧壁上沿着冷却环本体的周向均匀设有若干个耳板，所述耳板上设有定位腰...
【技术保护点】
1.蚀刻机冷却环，包括冷却环本体(1)，其特征是：在所述冷却环本体(1)的外侧壁上沿着冷却环本体(1)的周向均匀设有若干个耳板(2)，所述耳板(2)上设有定位腰型孔(3)，所述冷却环本体(1)上设有若干安装孔，所述安装孔内设有螺套(4)，所述冷却环本体(1)上设有弧形水管管路平面(5)，所述弧形水管管路平面(5)的一端设有进水端(6)，另一端设有出水端(7)。
2.根据权利要求1所述的蚀刻机冷却环，其特征是：所述耳板(2)的数量为三个。
【技术特征摘要】
1.蚀刻机冷却环，包括冷却环本体(1)，其特征是：在所述冷却环本体(1)的外侧壁上沿着冷却环本体(1)的周向均匀设有若干个耳板(2)，所述耳板(2)上设有定位腰型孔(3)，所述冷却环本体(1)上设有若干安装孔，所述安装孔内设有...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴黎明，花文璐，唐璐，王凯，
申请(专利权)人：启闳半导体科技江苏有限公司，
类型：新型
国别省市：
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