半导体器件的电阻网络单元区域和内置自测试器制造技术

技术编号:41612210 阅读:14 留言:0更新日期:2024-06-13 02:17
本公开涉及电阻网络单元区域、内置自测试器、以及半导体器件。一种半导体器件的内置自测试器(BIST)包括:输入/输出(I/O)电路,包括输出缓冲器和输入缓冲器,输出缓冲器的输出端在I/O端子处耦合到输入缓冲器的输入端,I/O端子被配置以接收或提供外部I/O信号;一个或多个电阻网络单元区域,被布置以影响在I/O端子处接收的参考电流;以及开关装置,被配置以选择性地将一个或多个电阻网络单元区域以交替的方式在第一阶段期间耦合到第一参考电压或在第二阶段期间耦合到第二参考电压,开关装置还被配置以基于(1)相位和(2)输入缓冲器的输出信号来确定对半导体器件中所包括的金属氧化物半导体(MOS)晶体管的静电放电(ESD)损坏。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及电阻网络单元区域、内置自测试器、以及半导体器件。


技术介绍

1、在集成电路(ic)的生命周期中的不同时间测试集成电路(ic)的正常功能。此类测试常常基于向ic提供逻辑1和逻辑0的输入测试模式,然后将实际输出测试模式与预期/理想输出测试模式进行比较。

2、在制造期间,在对包含ic的晶圆进行管芯分离之前,使用一种称为晶圆探测器的期间来测试晶圆上的每个ic是否存在功能缺陷。为了交换测试模式,晶圆探测器将一组微型探针延伸到与晶圆上的ic接触,即晶圆探测器通过有线方式与ic通信(与无线通信相比)。

3、内置自测试器(bist)是一种用于ic自我测试的器件。示例包括用于存储器电路的第一类型bist、用于利用ic的内部扫描链的逻辑电路的第二类型bist等。

4、ic易受静电放电(esd)损坏。对金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet)的典型esd损坏包括结损坏、栅极氧化物损坏和金属化烧毁(开路情况的实例)等。结损坏通常表现为硬故障或软故障。硬故障对应于漏电流的显著增加,使得mosfet不再起作用。软故障对应于漏电流的轻微本文档来自技高网...

【技术保护点】

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【技术特征摘要】

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【专利技术属性】
技术研发人员:陈焕能陈柏廷李绍宇洪崇纶陈村村
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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