【技术实现步骤摘要】
技术介绍
0、技术背景
1、可离子交换的玻璃广泛地用作覆盖玻璃及用在电子设备的主体中。虽然离子交换向玻璃提供了增强的表面强度(包括硬度的改善)，但玻璃仍然容易受到由暴露于比玻璃硬的材料所造成的刮擦的影响。
2、改善刮擦或磨蚀抗性的努力一般包括操控玻璃本身的组成以增加硬度、使用替代材料或将硬质涂层涂敷于玻璃表面。例如，开发了锂基玻璃，其改善了机械性能。已经证明li基玻璃具有优越的掉落性能，其允许这种玻璃在故障(玻璃破裂/断裂)之前从越来越高的高度掉落。为了改善刮擦性能以及其他的机械性能，可以添加硼以打开玻璃的紧密堆积的网络。
3、玻璃制造商及手持式设备制造商一直在不断努力改善手持式设备的刮擦性能。
4、因此，需要多种玻璃，其可以例如藉由离子交换来强化且具有允许将这种玻璃形成为抗刮玻璃制品的机械性质。
技术实现思路
0、概述
1、本公开内容的各个方面涉及玻璃基制品及其制造方法。
2、在一个方面中，玻璃基制品包含：铝硅酸锂...
【技术保护点】
1.一种玻璃基制品，包含：
2.如权利要求1所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品在从15微米到40微米的深度上包含大于或等于115MPa的平均压缩应力(CS平均)。
3.如权利要求1所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品包含大于或等于0.19t的压缩深度(DOC)。
4.如权利要求1所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品包含大于或等于150微米的压缩深度(DOC)。
5.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品包含大于或等于5N的努普刮痕起始阈值。
6.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，其...
【技术特征摘要】
1.一种玻璃基制品，包含：
2.如权利要求1所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品在从15微米到40微米的深度上包含大于或等于115mpa的平均压缩应力(cs平均)。
3.如权利要求1所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品包含大于或等于0.19t的压缩深度(doc)。
4.如权利要求1所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品包含大于或等于150微米的压缩深度(doc)。
5.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品包含大于或等于5n的努普刮痕起始阈值。
6.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品包含拐点处的压缩应力(cs拐点)，所述拐点处的压缩应力(cs拐点)大于或等于115mpa，并且dol尖峰大于或等于4.4微米。
7.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品包含拐点处的压缩应力(cs拐点)，所述拐点处的压缩应力(cs拐点)大于或等于135mpa，并且dol尖峰大于或等于5微米。
8.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品具有大于或等于500mpa的最大压缩应力(cs最大)。
9.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，其中在该玻璃基制品的中心处，氧化钠(na2o)与氧化锂(li2o)的摩尔比大于或等于0.10且小于或等于0.63。
10.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品的中心包含：
11.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，其中所述碱金属铝硅酸盐组合物是铝硅酸锂组合物。
12.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，其中氧化钾(k2o)与氧化钠(na2o)的摩尔比为0.6至1.6。
13.如权利要求12所述的玻璃基制品，其中氧化钾(k2o)与氧化钠(na2o)的摩尔比为0.8至1.4。
14.如权利要求12所述的玻璃基制品，其中氧化钾(k2o)与氧化钠(na2o)的摩尔比为1至1.3。
15.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，包含4至8微米的钾层深(dolk)。
16.如权利要求15中所述的玻璃基制品，包含5至7微米的钾层深(dolk)。
17.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，展现实质不含晶体或结晶的非晶微结构。
18.如权利要求1-4中任意一项所述的玻璃基制品，包含0.5毫米至0.8毫米的厚度。
19.一种消费电子产品，包含：
20.一种玻璃基制品，包含：
21.如权利要求20所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品在从15微米到40微米的深度上包含大于或等于115mpa的平均压缩应力(cs平均)。
22.如权利要求20所述的玻璃基制品，其中该玻璃基制品包含拐点处的压缩应力(cs拐点)，所述拐点处的压缩应力(cs拐点)大于或等于115mpa，并且dol尖峰为大于或等于4.4微米且小于或等于8微米。
23.如权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：J·阿明，郭晓菊，P·奥拉姆，R·V·鲁斯夫，L·尤克雷辛克，T·M·威尔金森，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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