【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及图像处理，尤其涉及一种超大规模版图的图形匹配方法及系统。
技术介绍
1、芯片制造过程的缺陷是影响芯片良率的重要因素，根据成因通常可分为系统性缺陷和非系统性缺陷。其中系统性缺陷通常由光刻、蚀刻、化学机械研磨等工艺引入，且与版图密切相关。
2、要想在集成电路版图中定位这些热点图形的位置以及在后续的流片中规避此类热点图形，就需要一种图形匹配（pattern matching）工具能将特定结构的图形在规模日益庞大的版图中定位出来。因为它确保了设计在实际制造时能够正常工作，传统的drc（design rule check）工具仅能实现简单结构的图形搜索匹配，无法描述复杂图形；对于复杂图形，drc检查可能出现误报和漏报情况，且现有的业界内drc工具搜索图形所需时间成本较高，速度较慢。
3、图形匹配是一种在计算机科学和工程领域中广泛应用的技术，用于在一个图形或图像中查找特定的模式或对象。这项技术涉及多个领域，包括计算机视觉、图像处理、模式识别和人工智能。图形匹配技术已经被认为是在光刻热点最准确且快速的检测手段，除...
【技术保护点】
1.一种超大规模版图的图形匹配方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种超大规模版图的图形匹配方法，其特征在于，所述主要特征信息包括长、宽尺寸和多边形顶点个数。
3.根据权利要求1所述的一种超大规模版图的图形匹配方法，其特征在于，所述模版匹配图形中，若干多边形位于关键区域标记中，其中每个多边形的边分为可移动边或固定边，所述可移动边的移动范围均在关键区域标记内部，不和其他多边形重叠且边移动后不改变原有图形的基本拓扑结构。
4.根据权利要求1所述的一种超大规模版图的图形匹配方法，其特征在于，所述构造包围矩形框具体包括：对每个...
【技术特征摘要】
1.一种超大规模版图的图形匹配方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种超大规模版图的图形匹配方法，其特征在于，所述主要特征信息包括长、宽尺寸和多边形顶点个数。
3.根据权利要求1所述的一种超大规模版图的图形匹配方法，其特征在于，所述模版匹配图形中，若干多边形位于关键区域标记中，其中每个多边形的边分为可移动边或固定边，所述可移动边的移动范围均在关键区域标记内部，不和其他多边形重叠且边移动后不改变原有图形的基本拓扑结构。
4.根据权利要求1所述的一种超大规模版图的图形匹配方法，其特征在于，所述构造包围矩形框具体包括：对每个多边形构造能包围该图形的最大边界框，每个多边形的最大边界框唯一且明确不变，多个多边形的包围矩形框允许重叠，但互不影响。
5.根据权利要求1所述的一种超大规模版图的图形匹配方法，其特征在于，所述根据粗模版匹配图形主要特征信息在版图图形匹配检测中，还需对粗模版匹配图形中多边形进行旋转、镜像后的图形进行匹配。
6.根据权利要求1所述的一种超大规模版图的图形匹配方法，其特征在于，所述建立kd查找树具体为：每个潜在区域都设置...
【专利技术属性】
技术研发人员：耿明强，高大为，任堃，林泽邦，牟芝平，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：
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