一种新型深红及近红外应力发光材料及其制备方法技术

本发明专利技术的目的在于提供一种新型深红及近红外应力发光材料及其制备方法，属于应力发光材料技术领域，所述应力发光材料，化学式为Gd<subgt;3</subgt;Ga<subgt;5‑x</subgt;In<subgt;x</subgt;O<subgt;12</subgt;:yCr<supgt;3+</supgt;zNd<supgt;3+</supgt;；本发明专利技术将高纯度的Gd<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;、Ga<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;、In<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;、Cr<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;、Nd<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;和H<subgt;3</subgt;BO<subgt;3</subgt;用研钵充分研磨混合原料；将混合粉末样品置于温度为1300‑1700℃，空气气氛下煅烧4‑8 h，冷却至室温，充分研磨得到可重复应力发光的固体粉末。本发明专利技术Cr<supgt;3+</supgt;和Nd<supgt;3+</supgt;掺杂Gd<subgt;3</subgt;Ga<subgt;5‑x</subgt;In<subgt;x</subgt;O<subgt;12</subgt;应力发光材料，通过调节Ga和In的不同比例改变晶体场环境，实现应力发光红移，调节Cr<supgt;3+</supgt;和Nd<supgt;3+</supgt;的浓度调整应力发光强度和主要发光位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于应力发光材料，具体涉及一种新型深红及近红外应力发光材料及其制备方法。

技术介绍

1、应力发光被定义为当材料受到机械力时发出的光，包括摩擦、断裂、压缩、拉伸、超声波等。根据材料的机械刺激特性不同，发光材料可分为三类，即形变发光、断裂发光和摩擦发光。应力发光的发光强度往往与施加应力的大小具有很强的关联性，因此应力发光材料适合应用于应力传感。而且应力传感技术可以弥补很多传统传感技术在新兴应用中的不足。并且考虑到许多非凡的性能特征，应力发光有望重塑压力传感的前景。

2、近红外光是波长是介于780 -2526 nm之间的电磁波。其具有很强的穿透性、很好的空间分辨率、较低的光损耗以及避免了自发荧光。此外，近红外光与o-h键振动峰940-1450 nm完美吻合，在进行检测时，与该部分吻合的近红外光大部分会被吸收，而后通过对不同波长的吸收和散射进行检测，即可识别含水量的高低。因此，近红外检测技术被广泛应用于植物栽培、夜视、食品分析、光伏和生物医学等领域。

3、近红外应力发光材料兼具了近红外发光材料和应力发光材料的双重优势，在很多不同的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种新型深红及近红外应力发光材料，其特征在于：所述深红及近红外应力发光材料的化学式为Gd3Ga5-xInxO12:yCr3+ zNd3+，其中，0≤x＜5且不包括4，0 ≤y≤0.02，0≤z≤0.05。

2.一种如权利要求1所述的新型深红及近红外应力发光材料的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

3.根据权利要求2所述的一种新型深红及近红外应力发光材料的制备方法，其特征在于：第一步中所述Gd2O3、Ga2O3、In2O3、Cr2O3、Nd2O3中Gd、Ga、In、Cr、Nd的摩尔比为3:5-x:x:y:z，0≤x＜5且不包括4，0≤y≤0.02，0≤z≤0....

【技术特征摘要】

1.一种新型深红及近红外应力发光材料，其特征在于：所述深红及近红外应力发光材料的化学式为gd3ga5-xinxo12:ycr3+ znd3+，其中，0≤x＜5且不包括4，0 ≤y≤0.02，0≤z≤0.05。

2.一种如权利要求1所述的新型深红及近红外应力发光材料的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

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【专利技术属性】
技术研发人员：安宏斌，李卫华，涂东，戴宝民，许玉和，张金亮，宋巍，王勇，张庆，陈云尧，刘玉成，
申请(专利权)人：中国铁建投资集团有限公司，
类型：发明
国别省市：