【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及精密光学测量,尤其涉及一种线扫描光谱共焦系统测试标定装置及方法。
技术介绍
1、光谱共焦传感器凭借其精度高、稳定性好、可测材料种类多等显著优势,近年来被广泛应用于工业领域,已成为工业生产中产品形貌测量、缺陷检测等应用中不可或缺的重要传感器之一。而线扫描光谱共焦系统是在点式光谱共焦传感器的基础上,通过光学系统设计使共焦点变成为共焦线的一种传感器,可以单次测量获得被测样品一条线的形貌数据,因此能极大提高测量效率。然而,线扫描光谱共焦系统在获得测量性能提升的同时,也给其设计、装配和标定过程都带来了极大挑战,其中标定过程对其最终产品的性能起着决定性作用。
2、先前的科技论文与专利申请聚焦于线扫描光谱共焦系统的结构设计,但由于此类传感器结构复杂,所涉及的光学、机械元件种类繁多,在制造和装配阶段难以避免地引入误差,进而可能会导致产品之间存在显著的个性化差异,因此仅从传感器的设计层面进行优化难以在应用层面上获得较为显著的性能提升。为满足工业批量化的应用,需再开展统一标准的产品测试标定工作,以尽可能排除和减小产品制造装配过程中
...【技术保护点】
1.一种线扫描光谱共焦系统测试标定装置,其特征在于:包括线扫描光谱共焦测头、测头固定架、信号采集系统、微处理器、二维平移台、运动控制器、标定样片、样片夹具和六维姿态调整台;
2.根据权利要求1所述的一种线扫描光谱共焦系统测试标定装置,其特征在于:所述二维平移台用于带动标定样片进行扫描运动,其运动行程大于线扫描光谱共焦测头的量程,且运动定位精度高于30nm。
3.根据权利要求1所述的一种线扫描光谱共焦系统测试标定装置,其特征在于:所述的标定样片为台阶标定样片,是由超精密机床制备的高精度金属样件,其上下表面长宽尺寸均大于线扫描光谱共焦测头的线长,上
...【技术特征摘要】
1.一种线扫描光谱共焦系统测试标定装置,其特征在于:包括线扫描光谱共焦测头、测头固定架、信号采集系统、微处理器、二维平移台、运动控制器、标定样片、样片夹具和六维姿态调整台;
2.根据权利要求1所述的一种线扫描光谱共焦系统测试标定装置,其特征在于:所述二维平移台用于带动标定样片进行扫描运动,其运动行程大于线扫描光谱共焦测头的量程,且运动定位精度高于30nm。
3.根据权利要求1所述的一种线扫描光谱共焦系统测试标定装置,其特征在于:所述的标定样片为台阶标定样片,是由超精密机床制备的高精度金属样件,其上下表面长宽尺寸均大于线扫描光谱共焦测头的线长,上下表面平面度误差小于50nm,粗糙度小于10nm,且台阶高度差不低于1μm。
4.根据权利要求1所述的一种线扫描光谱共焦系统测试标定装置,其特征在于:所述的标定样片为半片透射...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘钧,吴佳君,戴霖,陈旺,俞竞威,吕奕楷,
申请(专利权)人:苏州创视智能技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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