【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种镀膜均匀的真空镀膜装置，属于真空镀膜。
技术介绍
1、真空镀膜机器工作时，首先先抽真空，使得真空室处于真空状态，膜料加热到一定温度时，膜料分子会挥发，挥发出的膜料分子沉淀在真空室顶部的产品表面形成薄膜。
2、现有的一种镀膜均匀的真空镀膜装置在使用的过程中，仍会存在着些许的问题，比如在使用的过程中，物料静止放置在机体外壳的内部，导致在镀膜时会出现不均匀的情况，同时物料在镀膜结束后，不方便将其取出，影响镀膜的效率。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种镀膜均匀的真空镀膜装置，本技术结构简单，使用方便，可以使物料在设备的内部的均匀镀膜，同时方便物料的取出，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
3、一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括机体外壳，所述机体外壳的外侧转动连接有密封仓，所述机体外壳的顶部固定连接有控制器，所述密封仓的顶部固定连接有抽气泵，所述抽气泵的顶部固定连接有出气管，所述机体外壳的内部转动连...
【技术保护点】
1.一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括机体外壳(1)，其特征在于：所述机体外壳(1)的外侧转动连接有密封仓(2)，所述机体外壳(1)的顶部固定连接有控制器(3)，所述密封仓(2)的顶部固定连接有抽气泵(4)，所述抽气泵(4)的顶部固定连接有出气管(5)，所述机体外壳(1)的内部转动连接有转盘(6)，所述转盘(6)的顶部固定连接有镀膜管(7)，所述镀膜管(7)的外侧固定连接有连接管(8)。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：所述转盘(6)的顶部固定连接有电机(9)，所述电机(9)的输出端固定连接有转轴(10)，所述转轴(10)的顶...
【技术特征摘要】
1.一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括机体外壳(1)，其特征在于：所述机体外壳(1)的外侧转动连接有密封仓(2)，所述机体外壳(1)的顶部固定连接有控制器(3)，所述密封仓(2)的顶部固定连接有抽气泵(4)，所述抽气泵(4)的顶部固定连接有出气管(5)，所述机体外壳(1)的内部转动连接有转盘(6)，所述转盘(6)的顶部固定连接有镀膜管(7)，所述镀膜管(7)的外侧固定连接有连接管(8)。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：所述转盘(6)的顶部固定连接有电机(9)，所述电机(9)的输出端固定连接有转轴(10)，所述转轴(10)的顶部固定连接有支撑盘(11)，所述支撑盘(11)的顶部固定连接有卡接柱(12)，所述支撑盘(11)的内部开设有滑槽(13)，所述滑槽(13)的内部滑动连接有滑杆(14)，所述滑杆(14)的顶部固定连接有定位罩(15)，所述滑杆(14)的外侧固定连接有压缩弹簧(16)。
3.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：所述转盘(6)的顶部固定连接有衔接块(17)，所述衔...
【专利技术属性】
技术研发人员：范艳红，钟雨捷，
申请(专利权)人：深圳市宏海福新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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