【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种通道输送结构，尤其涉及一种湿法清洗设备用通道输送结构，属于半导体清洗设备。
技术介绍
1、如今，半导体产业已经成为现代社会中不可或缺的支柱之一，大到智能家居小到手机，几乎所有的科技领域都离不开半导体芯片的应用。然而，随着芯片尺寸的不断缩小，细小的杂质和污染物对其性能的影响变得更加显著，这个时候就体现了在线式湿法清洗设备的关键作用了。在线式湿法清洗设备是通过使用化学液体来去除芯片表面的杂质、残留物和污染物，以确保芯片的纯净度和性能，通常利用不锈钢网带在设备内部传输产品。放置在网带上的产品经过液体喷淋、风淋、热风烘干等操作后，即可完成产品清洗工艺。随着生产工艺升级，高度集成化后的元器件，不仅体积变小、间隙变小，而且化学镍金的金手指面积更小，分布密度更高，从而增大了产品的清洗难度。
2、现有的在线式湿法清洗设备中，由于绕制不锈钢网带的钢丝直径一般为1.2mm-2.0mm，产品又放置在网带上，因此产品下表面的元器件和金手指有部分会被钢丝遮挡。待清洗工艺完成后，相比元器件和金手指未被遮挡部位，被遮挡部分的洁净度会有所降低...
【技术保护点】
1.一种湿法清洗设备用通道输送结构，其特征在于，包括至少两个并排放置的输送组件，以及两个分别垂直放置在输送组件两端的动力传送轴；
2.根据权利要求1所述的一种湿法清洗设备用通道输送结构，其特征在于，所述的输送组件安装于湿法清洗设备的清洗腔体内部；所述的两个动力传送轴分别安装于湿法清洗设备的进料端和出料端。
3.根据权利要求1或2所述的一种湿法清洗设备用通道输送结构，其特征在于，所述的相邻两个输送组件的安装距离相等。
4.根据权利要求1所述的一种湿法清洗设备用通道输送结构，其特征在于，所述的链条导条的宽度小于凸台的内宽，其高度大于凸台
【技术特征摘要】
1.一种湿法清洗设备用通道输送结构，其特征在于，包括至少两个并排放置的输送组件，以及两个分别垂直放置在输送组件两端的动力传送轴；
2.根据权利要求1所述的一种湿法清洗设备用通道输送结构，其特征在于，所述的输送组件安装于湿法清洗设备的清洗腔体内部；所述的两个动力传送轴分别安装于湿法清洗设备的进料端和出料端。
3.根据权利要求1或2所述的一种湿法清洗设备用通道输送结构，其特征在于，所述的相邻两个输送组件的安装距离相等。
4.根据权利要求1所述的一种湿法清洗设备用通道输送结构，其特征在于，所述的链条导条的宽度小于凸台的内宽，其高度大于凸台的高度。
5.根据权利要求1所述的一种湿法清洗设备用通道输送结构，其特征在于，所述的齿轮的齿距与凸形链条的节距相等。
6.根据权利要求1或5所述的一种湿法清洗设备用通道输送结构，其特征在于，所述的动...
【专利技术属性】
技术研发人员：董辉，方敏，
申请(专利权)人：深圳市山木电子设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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