【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及对沉积(deposited)在样品载体上的样品材料进行解吸和电离的方法和装置。本专利技术的原理例如可用于成像离子光谱法，特别是使用基质辅助激光解吸电离(maldi)产生离子的成像离子光谱法。
技术介绍
1、下文将参照具体方面解释现有技术。但是，这不能理解为一种限制。本专利技术的有用发展和修改也可适用于本引言相对较窄的范围之外，本领域技术人员在阅读本引言之后的本专利技术公开内容后将很容易理解。
2、maldi方法用于离子光谱分析已有很长一段时间。在紫外真空maldi的情况下，可溶性分析物分子被嵌入吸光结晶性基质物质中，然后用相干紫外光脉冲照射。紫外光被结晶基质物质吸收，结晶基质物质吸收然后被解吸成材料云，嵌入的分析物分子与该物质一起被解吸。解吸过程和材料云的特性导致电荷载流子形成并转移到分析物分子上，从而产生带电的分析物分子或分析物离子。然后，这些分析物离子可利用电磁场进行引导和分析，例如，在迁移率和/或质量分析过程中，其根据带电分子或离子的碰撞截面-电荷比或质量-电荷比对其进行分类和探测。
3、这种...
【技术保护点】
1.对沉积在样品载体上的样品材料进行解吸和电离的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中第一高能辐射的入射方向相对于样品载体的表面法线改变，并瞄准多个撞击点。
3.根据权利要求1所述的方法，其中样品材料使用光吸收基质物质制备。
4.根据权利要求1所述的方法，其中样品材料包括多个点制备物或二维组织切片。
5.根据权利要求1所述的方法，其中样品载体包括玻璃板、金属板或陶瓷板。
6.根据权利要求1所述的方法，其中第一高能辐射和/或第二高能辐射由脉冲激光器提供。
7.根据权利要求1所述的方...
【技术特征摘要】
1.对沉积在样品载体上的样品材料进行解吸和电离的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中第一高能辐射的入射方向相对于样品载体的表面法线改变，并瞄准多个撞击点。
3.根据权利要求1所述的方法，其中样品材料使用光吸收基质物质制备。
4.根据权利要求1所述的方法，其中样品材料包括多个点制备物或二维组织切片。
5.根据权利要求1所述的方法，其中样品载体包括玻璃板、金属板或陶瓷板。
6.根据权利要求1所述的方法，其中第一高能辐射和/或第二高能辐射由脉冲激光器提供...
【专利技术属性】
技术研发人员：马赛尔·尼豪斯，安德烈亚斯·哈泽，
申请(专利权)人：布鲁克·道尔顿有限及两合公司，
类型：发明
国别省市：
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