清扫用片、清扫用片的层叠体、清扫工具和清扫用片的制造方法技术

技术编号:41531950 阅读:31 留言:0更新日期:2024-06-03 23:08
本发明专利技术涉及清扫用片、清扫用片的层叠体、清扫工具和清扫用片的制造方法。提供清扫用片等,所述清扫用片形成有与被清扫体的表面滑动接触的清洁面,清洁面具有凹凸,使凸部的前端与被清扫体滑动接触来使用,凸部由以沿着清洁面的面方向隔开间隔的方式形成的构件构成,利用纳米压痕法而测得的构件的硬度为0.4MPa以上,清洁面还具有粘合力高于构件且在清洁面露出的粘合凹部。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及清扫用片、清扫用片的层叠体、清扫工具和清扫用片的制造方法


技术介绍

1、广泛已知用于清扫地板等地面的各种清扫工具(擦拭用具)。这种清扫工具例如具备安装于棒状柄的端部的清扫头和能够对该清扫头进行装卸的清扫用片,将清扫用片固定于清扫头来使用(专利文献1)。

2、专利文献1中记载的清扫工具通过使上述清扫用片的片表面(清洁面)与地板等被清扫体的面滑动接触,从而能够捕捉被清扫体上的垃圾(去除对象物)。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:日本特开平9-220191号公报


技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、专利文献1中记载的固定于清扫工具来使用的清扫用片具备纤维集合而成的纤维片。详细而言,专利文献1中记载的清扫用片具备:形成有沿着厚度方向贯穿的多个孔的、最外侧的纤维片,以及重叠于该纤维片的粘合剂层。根据专利文献1中记载的清扫用片,能够利用纤维片的微细纤维结构来刮取并捕捉垃圾。另外,如果垃圾进入至上述孔中,则进入的垃圾能够被粘本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种清扫用片,其形成有与被清扫体的表面滑动接触的清洁面,

2.根据权利要求1所述的清扫用片,其中,所述清洁面中的所述粘合层的露出面积的比例大于50%。

3.根据权利要求1或2所述的清扫用片,其中,从所述凸部的所述前端起至所述粘合凹部为止的平均凸部高度(H)为1000×10-3mm以下。

4.根据权利要求3所述的清扫用片,其中,所述平均凸部高度(H)为500×10-3mm以下。

5.根据权利要求1或2所述的清扫用片,其中,所述第一方向的所述粘合凹部的形状的平均长度(L)为0.3mm以上,所述第一方向为在所述面方向上所述间隔的平均长度达到最...

【技术特征摘要】

1.一种清扫用片,其形成有与被清扫体的表面滑动接触的清洁面,

2.根据权利要求1所述的清扫用片,其中,所述清洁面中的所述粘合层的露出面积的比例大于50%。

3.根据权利要求1或2所述的清扫用片,其中,从所述凸部的所述前端起至所述粘合凹部为止的平均凸部高度(h)为1000×10-3mm以下。

4.根据权利要求3所述的清扫用片,其中,所述平均凸部高度(h)为500×10-3mm以下。

5.根据权利要求1或2所述的清扫用片,其中,所述第一方向的所述粘合凹部的形状的平均长度(l)为0.3mm以上,所述第一方向为在所述面方向上所述间隔的平均长度达到最小的方向。

6.根据权利要求5所述的清扫用片,其中,所述平均长度(l)为0.5mm以上。

7.根据权利要求1或2所述的清扫用片,其中,利用纳米压痕法对所述凸部的所述构件进行测定时的加载曲线的最小载荷为-0.40μn以上且0μn以下。

8.根据权利要求1或2所述的清扫用片,其中,利用纳米压痕法对所述凸部的所述构件进行测定时的卸载曲线的最小载荷为-1.50μn以上且0μn以下。

9.根据权利要求1或2所述的清扫用片,其中,所述清洁面的静摩擦系数为1.00以下。

10.根据权利要求1或2所述的清扫用片,其具备沿着所述清洁面的面方向扩展且配...

【专利技术属性】
技术研发人员:山田博文永海洋陶山阳右大森常晓重松义武戎洋治阪下贞二铃川真央
申请(专利权)人:尼托母斯股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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