【技术实现步骤摘要】
专利
本专利技术涉及用于执行扫描探针显微镜(spm)测量的方法和工具。spm是许多材料表征和成像技术的统称，诸如原子力显微镜(afm)或扫描扩散电阻显微镜(ssrm)。
技术介绍
1、大多数spm配置使用相对于材料样品进行扫描的探针。该探针包括细长的条，该细长的条在一端连接到支架并且在其另一端携带尖端。该条被称为探针的悬臂，而尖端可以是附接到悬臂平面的金字塔形主体。在spm采集过程中，尖端被放置成与样品表面接触或紧密接近样品表面，并且沿着给定的轨迹(通常是一组平行线)扫描探针。尖端和表面之间的相互作用被转换成表面的地形、电学或磁学数据，或转换成与样品成分有关的信号，这取决于尖端的特性和测量设置。探针可以与被调查的表面连续接触，或者可以应用间歇接触模式，其中通过检测探针-表面连接的阻抗(电学或其他)的变化来测量表面特性。当探针和表面之间的相互作用由非接触力(诸如vanderwaals力)主导时，非接触模式同样适用。
2、在许多基于接触的spm型测量中，尖端在多次扫描后劣化，使得需要重复更换尖端。此外，当对同一样品进行不同...
【技术保护点】
1.一种用于生产包括用于扫描探针显微镜的多个尖端(2)的基板的方法，所述方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在生产所述掩模之前，所述多个纳米尺寸的尖端(2)形成尖端的规则的二维阵列。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述尖端(2)在基部处的直径在10nm和50nm之间，并且高度在50nm和800nm之间，并且其中任意两个相邻尖端之间的距离在50nm到500nm之间。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述基座(6)是根据规则的二维阵列来布置的。
5.根据权利要求...
【技术特征摘要】
1.一种用于生产包括用于扫描探针显微镜的多个尖端(2)的基板的方法，所述方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在生产所述掩模之前，所述多个纳米尺寸的尖端(2)形成尖端的规则的二维阵列。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述尖端(2)在基部处的直径在10nm和50nm之间，并且高度在50nm和800nm之间，并且其中任意两个相邻尖端之间的距离在50nm到500nm之间。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述基座(6)是根据规则的二维阵列来布置的。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，基座(6)的所述规则阵列的节距在10μm和25μm之间。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，在去除所述掩模部(5)之后，每个基座在其上表面上包括一个尖端。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述基座(6)是圆锥形，具有较宽的基部和较窄的顶部，所述顶部承载所述至少一个尖端(2)。
8.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述基板(1)的表面积是至少一百平方厘米。
9.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述尖端(2)在生产所述掩模部(5)时包括涂层。
10.根据前述权利要求中的任一...
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