一种耐冲击高强度复合陶瓷涂层及其制备方法技术

本发明专利技术涉及陶瓷涂层材料领域，提供了一种耐冲击高强度复合陶瓷涂层及其制备方法，复合陶瓷涂层沉积在刀具基体上；所述的复合陶瓷涂层由TiC层和m(SiC/Ti<subgt;3</subgt;SiC<subgt;2</subgt;/hBN)层组成；所述的m(SiC/Ti<subgt;3</subgt;SiC<subgt;2</subgt;/hBN)层由周期交替沉积的SiC层、Ti<subgt;3</subgt;SiC<subgt;2</subgt;层和hBN层，Ti<subgt;3</subgt;SiC<subgt;2</subgt;层在SiC层和hBN层之间；所述的TiC层过渡层位于刀具基体和复合陶瓷涂层之间增加m(SiC/Ti<subgt;3</subgt;SiC<subgt;2</subgt;/hBN)层和刀具基体的结合强度，m(SiC/Ti<subgt;3</subgt;SiC<subgt;2</subgt;/hBN)层和TiC层接触的为SiC层；SiC层含有孪晶以及Ti<subgt;3</subgt;SiC<subgt;2</subgt;和hBN具有特殊的层状结构能够增加复合陶瓷涂层的强度和耐冲击性，此外，m(SiC/Ti<subgt;3</subgt;SiC<subgt;2</subgt;/hBN)层中三者异质界面结构能够提高涂层的强度和冲击性能，因此本发明专利技术的复合陶瓷涂层具有优异的耐冲击和强度性能，具有广泛的应用价值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及陶瓷涂层材料领域，具体涉及一种耐冲击高强度复合陶瓷涂层及其制备方法。

技术介绍

1、在工业生产和日常生活中，陶瓷材料的应用非常广泛，但传统的陶瓷材料往往存在脆弱和易碎的问题，限制了其在高冲击环境下的应用。例如，在航空航天领域，航天器在进入大气层时面临着极高的冲击力，传统陶瓷材料无法承受这种强大的冲击力而容易破裂。同样，在汽车制造和建筑工程中，由于交通事故或自然灾害等原因，高冲击环境下的陶瓷材料也容易受损。

2、目前，尽管陶瓷涂层在提高强度和耐冲击性能等方面，但仍存在一些不足之处。首先是强度不足的问题，目前耐冲击涂层主要是金属/陶瓷涂层，如公开号为cn102140616a的中国专利公开了一种采用喷涂制备的金属/陶瓷涂层;专利号为cn105671476a的中国专利公开了一种wc-10co-4cr涂层，但目前金属/陶瓷涂层中存在模量相对较低的金属势必导致金属/陶瓷涂层强度提高存在一定的局限性。其次，陶瓷涂层和基底的结合强度相对较弱，如公开号为cn103898446b的中国专利公开了一种在玻璃基底上采用磁控溅射法制备vc-ni韧性涂层，但本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种耐冲击高强度复合陶瓷涂层，其特征在于，复合陶瓷涂层沉积在刀具基体上；

2.如权利要求1所述的一种耐冲击高强度复合陶瓷涂层，其特征在于，所述TiC层的制备方法如下：将表面清洗和抛光后的刀具放入磁控溅射室，然后将真空度抽至以下，然后通入Ar惰性气体，使真空室的气压保持在0.1～5Pa,以钛靶和碳靶分别为钛源和碳源，钛靶和碳靶分别的电流均为4～8A，基体偏压为 80～120 V，Ar流量为20～40sccm。

3.如权利要求1所述的一种耐冲击高强度复合陶瓷涂层，其特征在于，所述m(SiC/Ti3SiC2/hBN)层的制备方法如下：采用磁控溅射法，在TiC层上进行...

【技术特征摘要】

1.一种耐冲击高强度复合陶瓷涂层，其特征在于，复合陶瓷涂层沉积在刀具基体上；

2.如权利要求1所述的一种耐冲击高强度复合陶瓷涂层，其特征在于，所述tic层的制备方法如下：将表面清洗和抛光后的刀具放入磁控溅射室，然后将真空度抽至以下，然后通入ar惰性气体，使真空室的气压保持在0.1～5pa,以钛靶和碳靶分别为钛源和碳源，钛靶和碳靶分别的电流均为4～8a，基体偏压为 80～120 v，ar流量为20～40sccm。

3.如权利要求1所述的一种耐冲击高强度复合陶瓷涂层，其特征在于，所述m(sic/ti3sic2/hbn)层的制备方法如下：采用磁控溅射法，在tic层上进行依次交替沉积sic层、ti3sic2层和hbn层，m为调制周期，形成m(sic/ti3sic2/hbn)层。

4.如权利要求1或3所述的一种耐冲击高强度复合陶瓷涂层，其特征在于，所述sic层的沉积参数如下：将真空室内的真...

【专利技术属性】
技术研发人员：何霞文，
申请(专利权)人：深圳市奥美特纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：