【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于合作对象三维测量定位，具体涉及一种抗干扰测量定位用模式靶标及其定位方法。
技术介绍
1、模式靶标在测量定位中多用于提供高对比度的特征，在智能制造、航空航天等领域的视觉测量、导航、定位任务中，应用较为广泛。人工设计的模式靶标通常在大多数光照和环境条件下，均具有稳定的以及易于识别的几何特征，从而与周围环境区分开。
2、现有多种模式靶标设计，针对特定场景下的测量定位任务做出相应的技术创新。如在制图与定位场景中广泛应用的apriltag等模式靶标；在标定场景中，模式靶标也会以阵列的形式，标定用到的二维特征如角点或是圆形，也可实现图像中的像素坐标与对应世界坐标的快速映射。但现有通用的模式靶标以及与其配套的识别算法，多在近距离的自然光场景下应用，少有能够满足多尺度的长景深成像场景，在多种环境干扰下中进行测量定位的靶标设计与配套的识别算法设计。多为采用现有的靶标模式或是识别算法，完成测量任务。
3、所以在模式靶标的应用中，应将靶标的物理结构设计与识别算法设计相结合，共同实现高效的定位需求，提供有利于算法能效的低成...
【技术保护点】
1.一种抗干扰测量定位用模式靶标的定位方法，所述定位方法用于定位所述的模式靶标，所述模式靶标包括：圆形整体结构以及编码圆；所述圆形整体结构使用外圆和内圆构成的同心圆环，所述同心圆环的内部的颜色保持一致，所述同心圆环对应一个二进制编码的识别序列号，所述识别序列号采用所述编码圆的形式，所述编码圆分布在所述同心圆环的编码环带上；所述模式靶标采用抗反射的吸光材质进行印制；
2.根据权利要求1所述一种抗干扰测量定位用模式靶标的定位方法，其特征在于，所述靶标识别的方法包括：
3.根据权利要求2所述一种抗干扰测量定位用模式靶标的定位方法，其特征在于，得到所述...
【技术特征摘要】
1.一种抗干扰测量定位用模式靶标的定位方法，所述定位方法用于定位所述的模式靶标，所述模式靶标包括：圆形整体结构以及编码圆；所述圆形整体结构使用外圆和内圆构成的同心圆环，所述同心圆环的内部的颜色保持一致，所述同心圆环对应一个二进制编码的识别序列号，所述识别序列号采用所述编码圆的形式，所述编码圆分布在所述同心圆环的编码环带上；所述模式靶标采用抗反射的吸光材质进行印制；
2.根据权利要求1所述一种抗干扰测量定位用模式靶标的定位方法，其特征在于，所述靶标识别...
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