一种高亮度无闪烁的等离激元-激子杂化纳米超结构的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高亮度无闪烁的等离激元‑激子杂化纳米超结构的制备方法，在本发明专利技术中把等离激元和激子构筑在同一个纳米复合结构中，以金(Au)纳米颗粒提供局域场，选择与之等离激元吸收峰共振的荧光量子点(QD)ZnCdSeS/ZnS提供激子，通过表面可功能化和厚度可调的二氧化硅SiO<subgt;2</subgt;做为间隔层，利用化学合成的方法制备单颗粒分散的Au@SiO<subgt;2</subgt;‑QD纳米超结构。本发明专利技术制备方法新颖，制作成本低且工艺简单，在该纳米超结构中，创新性地把等离激元和激子复合在一个结构中，极大地抑制了量子点发光闪烁特征，提高了单颗粒量子点的发射亮度。有望应用于要求高发光阈值的激光和量子点电致发光二极管(LED)中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体纳米材料与器件领域，具体涉及一种高亮度无闪烁的等离激元-激子杂化纳米超结构的制备方法。

技术介绍

1、量子点具有独特的光学性质，可调谐的发射波长、高量子效率、较高的稳定性等特点使其广泛地应用于光伏、led显示、生物成像等研究领域。然而在深层次、单颗粒的研究中，量子点呈现出光子强度亮态和暗态的交替闪烁行为，这极大的限制了量子点在显示方面的应用。另一方面，由于量子点激子衰变过程中的非辐射俄歇过程的影响，激子与激子相互作用，多个激子湮灭为一个激子进行发光或者不发光，导致量子点荧光效率降低，不利于多光子的产生，限制了其在高光子阈值方面的应用，比如量子点太阳能电池、激光器等方面。

2、为了抑制量子点非辐射俄歇复合过程，目前已经有两种主流的方案来克服这些缺点。一种是量子点的化学合成方面，在量子点核外生长一层或者多层带隙较宽的壳层材料形成核-壳结构，进而钝化量子点表面和减缓俄歇复合速率，达到抑制荧光闪烁和提高发射强度的目的。这种方案要求有较高的量子点合成技术，合成路线相对苛刻，在制备量子点过程中会产生一些有毒的副产物，会对环境带来一定的污本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高亮度无闪烁的等离激元-激子杂化纳米超结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的高亮度无闪烁的等离激元-激子杂化纳米超结构的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中金纳米颗粒溶液的制备方法如下：准备30 mL的0.77 mM四氯金酸水溶液，煮沸后加入10 mM四水合柠檬酸钠水溶液5 mL，反应15 min后加入0.25 g PVP搅拌12小时。

3.根据权利要求1所述的高亮度无闪烁的等离激元-激子杂化纳米超结构的制备方法，其特征在于，步骤（1）中金纳米颗粒的等离激元共振峰在530 nm。

4.根据权利要求1所述的高亮度无...

【技术特征摘要】

1.一种高亮度无闪烁的等离激元-激子杂化纳米超结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的高亮度无闪烁的等离激元-激子杂化纳米超结构的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中金纳米颗粒溶液的制备方法如下：准备30 ml的0.77 mm四氯金酸水溶液，煮沸后加入10 mm四水合柠檬酸钠水溶液5 ml，反应15 min后加入0.25 g pvp搅拌12小时。

3.根据权利要求1所述的高亮度无闪烁的等离激元-激子杂化纳米超结构的制备方法，其特征在于，步骤（1）中金纳米颗粒的等离激元共振峰在530 nm。

4.根据权利要求1所述的高亮度无闪烁的等离激元-激子杂化纳米超结构的制备方法，其特征在于，步骤（2）中取7 ml步骤（1）制得的金纳米颗粒溶液，离心两次后取沉淀然后分散到10 ml无水乙醇中，随后加入5 ml水，5 ml氨水，以及10 μl 体积分数10%的正硅酸乙酯teos，常温搅拌反应4 h，最后离心取沉淀分散至2 ml无水乙醇中，获得au@sio2纳米颗粒溶液。

5.根据权利要求4所述的高亮度无闪烁的等离激元-激子杂化纳米超结构的制备方法，其特征在于，步骤（3）中向步骤（2）获得的2 ml au@...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨阳，谢罗刚，冯世全，赵承周，龚高尚，
申请(专利权)人：郑州轻工业大学，
类型：发明
国别省市：