旋流器内壁清洗设备制造技术

技术编号:41513115 阅读:21 留言:0更新日期:2024-05-30 14:51
本发明专利技术涉及旋流器技术领域,提供了一种旋流器内壁清洗设备,包括滑槽柱,竖直插设在旋流器的罐体中;滑槽柱的两端分别从罐体的上出口和下出口伸出;滑降槽,以螺旋方式缠绕开设在滑槽柱的柱身上;滑降转筒,与滑槽柱套接,其内壁上设置有导向滑块;导向滑块分别滑动设置在滑降槽内,且导向滑块与滑降槽的截面形状相适配;刷杆,均匀环设在滑降转筒的外壁上;刷杆的一端设有刷洗头。借此,本发明专利技术通过滑降转筒沿滑槽柱旋转滑下,产生离心力使刷洗头紧贴在旋流器罐体的内壁上,可将粘附力较强的杂质刷下。涮洗过程无需将旋流器拆下,可在线完成清洗作业。清洗效果好,作业效率高。本发明专利技术结构简单,拆卸便捷,可适用于多种规格的旋流器的清洗。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于旋流器,尤其涉及一种旋流器内壁清洗设备


技术介绍

1、旋流器利用离心力将不同密度的混合物料进行分离,长期使用难免在其内壁上积存残留物料,需要定期进行清洗。

2、如中国专利cn201132136y中所公开的旋流器,其罐体为锥形结构,且进深较大,人工使用工具刷洗内壁,仅能刷到顶部出口或底部出口附近的区域,无法深入罐内清洗。

3、目前较为常用的清洗方式是从旋流器的进料口处通入高压清洗水,使清洗水在其内壁上流动,从而将残留物料冲洗下来。水流冲洗能够清理掉粘附力弱的杂质,如进位于进料口附近的杂质。

4、由于从进料口通入的高压清洗水在罐体内壁上流动时水压会下降,所以仅靠水流冲洗无法将罐体内部粘附力较强的杂质去除,导致其积累在内壁上。

5、因此为避免杂质过多积累,每隔一段时间需要将罐体拆下进行充分清洗,操作繁琐,也影响正常的生产进程。

6、综上可知,现有技术在实际使用上显然存在不便与缺陷,所以有必要加以改进。


技术实现思路

1、针对上述缺陷,本专利本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种旋流器内壁清洗设备,其特征在于,包括

2.如权利要求1所述的旋流器内壁清洗设备,其特征在于,所述滑降槽的为三条,且三条所述滑降槽的初始位置互呈120°。

3.如权利要求1所述的旋流器内壁清洗设备,其特征在于,所述刷杆上靠近刷洗头的位置固设挡水叶片。

4.如权利要求3所述的旋流器内壁清洗设备,其特征在于,所述刷杆上还转动连接配重摆杆,所述配重摆杆的端部固设配重球。

5.如权利要求1~4任意一项所述的旋流器内壁清洗设备,其特征在于,还包括位于罐体的上出口的上方,用于限位滑槽柱上端的顶平台;以及位于罐体的下出口的下方,用于承托滑槽柱下端的...

【技术特征摘要】

1.一种旋流器内壁清洗设备,其特征在于,包括

2.如权利要求1所述的旋流器内壁清洗设备,其特征在于,所述滑降槽的为三条,且三条所述滑降槽的初始位置互呈120°。

3.如权利要求1所述的旋流器内壁清洗设备,其特征在于,所述刷杆上靠近刷洗头的位置固设挡水叶片。

4.如权利要求3所述的旋流器内壁清洗设备,其特征在于,所述刷杆上还转动连接配重摆杆,所述配重摆杆的端部固设配重球。

5.如权利要求1~4任意一项所述的旋流器内壁清洗设备,其特征在于,还包括位于罐体的上出口的上方,用于限位滑槽柱上端的顶平台;以及位于罐体的下出口的下方,用于承托滑槽柱下端的底平台;

6.如权利要求5所述的旋流器内壁清洗设备,其特征在于,所述滑降转筒的上端面嵌设有多个用于与下压套筒的端面抵接的滚珠。

7.如权利要求6所述的旋流器内壁清洗设备,其特征在于,所述下压套筒的筒身上固设两条呈180°夹角...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵国强丁加荣韩其飞赵志霖张梅涛
申请(专利权)人:安丘金山机械制造有限公司
类型:发明
国别省市:

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