一种面向分布式可移动电磁脉冲空间发射相参合成方法技术

本发明专利技术公开了一种面向分布式可移动电磁脉冲空间发射相参合成系统的相参参数分析、测试与调控方法，属于特征是脉冲宽度、间隔、位置、频率或时序的脉冲处理技术领域，将合成效率的影响因素归纳为空间对准误差、脉冲触发时刻误差、极化方向误差、时空相位误差四个方面，完成了对合成效率的定量表征；列出了电磁脉冲空间分布式发射相参合成的相参参数测试方法和测试系统组成，无需移动靶标、场分布扫描架等复杂测试装置；列出了合成效率测试与调控方法，通过发射参数调控与时域波形的实时对比，以较为简便的方式实现移动式平台的发射相参。利用本发明专利技术，在3个发射源的空间发射相参合成试验中，可实现90％以上的相参合成效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于特征是脉冲宽度、间隔、位置、频率或时序的脉冲处理，更具体地，涉及一种面向分布式可移动电磁脉冲空间发射相参合成的相参参数分析、测试与调控方法。

技术介绍

1、分布式电磁脉冲空间相参合成，是指将多个电磁脉冲发射源在空间中分散布置，向同一目标发射电磁脉冲，通过调整各个波束的载波频率、脉冲触发时刻、发射相位等参数，使其在合成目标处达成一致，实现相参合成，使合成目标处的功率密度按照发射源数量以平方倍增长。

2、与之类似的技术，还包括空间能量合成和通道内相参合成。若多个合成波束仅满足空间对准和频率一致，而脉冲触发时刻和相位无法达成一致，则变为常规的能量合成，其合成目标处的功率密度按照发射源数量呈线性增长。通道内相参合成则是将多个发射源的能量在传输波导内合成，各发射源之间的空间位置相邻且严格固定，共用输出孔径，这种方法对远场目标处功率密度的提升程度，与空间能量合成的方式等同。因此，与空间能量合成或通道内相参合成相比，空间相参合成具有合成位置功率密度高的明显优势。

3、分布式电磁脉冲空间相参合成的常见应用是分布式相参合成雷达。美国的l本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种面向分布式可移动电磁脉冲空间发射相参合成系统的相参参数分析、测试与调控方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，电磁脉冲相参合成效率＝(1-空间对准误差造成的效率变化)×(1-脉冲触发时刻误差造成的效率变化)×(1-极化方向误差造成的效率变化)×(1-时空相位误差造成的效率变化)。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，空间对准误差造成的效率变化＝∑[(该发射源在合成目标处的场强/理想相参合成场强)×该发射源指向角度偏差×(1-发射天线远场方向系数对应角度的下降比例)]＝∑{(该发射源在合成目标处的场强/理想相参合成场强)×{...

【技术特征摘要】

1.一种面向分布式可移动电磁脉冲空间发射相参合成系统的相参参数分析、测试与调控方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，电磁脉冲相参合成效率＝(1-空间对准误差造成的效率变化)×(1-脉冲触发时刻误差造成的效率变化)×(1-极化方向误差造成的效率变化)×(1-时空相位误差造成的效率变化)。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，空间对准误差造成的效率变化＝∑[(该发射源在合成目标处的场强/理想相参合成场强)×该发射源指向角度偏差×(1-发射天线远场方向系数对应角度的下降比例)]＝∑{(该发射源在合成目标处的场强/理想相参合成场强)×{搭载平台姿态角控制误差+相对于搭载平台的波束指向角控制误差+arctan[(搭载平台空间定位误差+合成目标位置探测误差)/搭载平台与合成目标的间距]}}×(1-发射天线远场方向系数对应角度的下降比例)。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，脉冲触发时刻误差造成的效率变化＝∑(该发射源在合成目标处的场强/理想相参合成场强×该发射源的自定义系数/发射源总数量)，其中，当(脉冲宽度-该发射源与指定发射源在合成目标处的脉冲起始时刻偏差...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨萌，肖龙，杨婧娴，陈俊峰，戴宏宇，
申请(专利权)人：中国舰船研究设计中心，
类型：发明
国别省市：