一种电真空用纳米级锆粉的制作工艺制造技术

本发明专利技术涉及一种电真空用纳米级锆粉的制作工艺，通过将金属锆粉通过氩气送入到等离子体对辊机内进行破碎作业，破碎作业结束后即得到电真空用纳米级锆粉；所述等离子体对辊机包括机壳、位于机壳内部的左锥辊、位于机壳内部的右锥辊、等离子电源。本发明专利技术主要依靠等离子体对辊机所产生的等离子体电弧、机械撞击力等对金属锆粉进行破碎，破碎效果好，即使金属锆粉的原始粒径达到1mm，也能够在一次破碎作业中将其破碎成纳米级粉体，所得电真空用纳米级锆粉的D90≤70nm，纯度≥99.8％，应用价值极高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电真空用纳米级锆粉的制作工艺，属于吸气材料加工。

技术介绍

1、吸气材料是一种应用在真空器件中通过分子间作用力和化学反应显著吸收h2、co、n2、h2o等活性杂质气体的功能材料，是用来获得、维持真空以及纯化气体等，能有效地吸着某些(种)气体分子的制剂或装置的通称。材料的功能主要是在真空器件存放或服役期间，保持并提高器件内部的目标真空度，使器件内部气体压强小于可承受的最大气体压强，保证正常工作，延长服役周期，控制器件的使用成本。

2、公开(公告)号：cn114015905b公开了“纳米级锆基非蒸散型吸气材料制备工艺”，该制备工艺中使用的原料有电真空用纳米级锆粉，其制作工艺通常是用湿法球磨，电真空用锆粉(粒度37μm)在高能球磨机上进行球磨12h，球磨结束后，产物过滤，滤饼用去离子水洗涤5次，置于80℃烘箱中干燥至恒重，得到纳米锆，研磨介质为无水乙醇，电真空用锆粉、研磨球、无水乙醇的质量比2：1：4。

3、目前湿法球磨中，一个是原料的粒径有限制，通常都需要微米级的粉体进行高能球磨，才能达到纳米级(如d90≈900nm)本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电真空用纳米级锆粉的制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种电真空用纳米级锆粉的制作工艺，其特征在于：所述等离子体对辊机包括机壳(10)、位于机壳(10)内部的左锥辊(20)、位于机壳(10)内部的右锥辊(30)、等离子电源，所述左锥辊(20)的小端朝上设置，所述右锥辊(30)的小端朝下设置，所述左锥辊(20)外侧壁的锥度与右锥辊(30)外侧壁的锥度相等，所述左锥辊(20)的外侧壁自上而下依次设置有多组凸起组，所述凸起组由多个球缺状的导电凸起(21)按照等间距设置而成；所述右锥辊(30)的外侧壁自上而下依次设置有多组导电槽组，所述导电槽组由多...

【技术特征摘要】

1.一种电真空用纳米级锆粉的制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种电真空用纳米级锆粉的制作工艺，其特征在于：所述等离子体对辊机包括机壳(10)、位于机壳(10)内部的左锥辊(20)、位于机壳(10)内部的右锥辊(30)、等离子电源，所述左锥辊(20)的小端朝上设置，所述右锥辊(30)的小端朝下设置，所述左锥辊(20)外侧壁的锥度与右锥辊(30)外侧壁的锥度相等，所述左锥辊(20)的外侧壁自上而下依次设置有多组凸起组，所述凸起组由多个球缺状的导电凸起(21)按照等间距设置而成；所述右锥辊(30)的外侧壁自上而下依次设置有多组导电槽组，所述导电槽组由多个与导电凸起(21)相适配的球形导电槽(31)组成；所述导电凸起(21)外接等离子电源的正极，所述导电槽(31)外接等离子电源的负极且接地；

3.根据权利要求2所述的一种电真空用纳米级锆粉的制作工艺，其特征在于：所述左锥辊(20)的下端同轴连接有第一轴筒(22)，所述左锥辊(20)的上端同轴连接有第二轴筒(23)，所述第一轴筒(22)和第二轴筒(23)均与机壳(10)转动连接；

4.根据权利要求3所述的一种电真空用纳米级锆粉的制作工艺，其特征在于：所述左锥辊(20)包括铁质辊筒一，在铁质辊筒一的内、外壁均喷涂设置有氧化锆陶瓷涂层一，所述导电凸起(21)由铜合金制成；所述右锥辊(30)包括铁质辊筒二，在铁质辊筒二的内、外壁均喷涂设置有氧化锆陶瓷涂层二，所述导电槽(31)由铜合金...

【专利技术属性】
技术研发人员：任聪颖，何锦，刘朋，张爽，
申请(专利权)人：安徽有研吸气新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：