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一种用于液滴操纵的仿生表面制造技术

技术编号:41481200 阅读:41 留言:0更新日期:2024-05-30 14:31
本申请公开了一种用于液滴操纵的仿生表面,包括:铜基底、微米级尺度的乳突阵列和预设形状的凹坑,其中,所述乳突阵列位于所述铜基底的上表面,所述预设形状的凹坑位于所述微米级尺度的乳突阵列的预设区域。上述仿生表面具有润湿性能稳定、结构参数精准可控,加工精度高等优点,能够有效的实现液滴抓取并可控的改变液滴运动轨迹,在微流控领域具有潜在的优势。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及金属铜表面润湿性改性表面,特别涉及一种用于液滴操纵的仿生表面


技术介绍

1、近来年,由于在细胞分选、药物检测和化学微反应等领域具有潜在的应用价值,液滴操纵受到了广泛的关注。受自然界中具有特殊润湿性表面的启发,研究人员制备了不同性质的液滴操纵表面。然而,上述表面制备方法复杂,表面形貌复现性差,润湿性的稳定性不高,制约了上述表面的大规模应用。此外,单一仿生结构的表面液滴操纵能力有限,缺乏功能性的拓展及优化,不能满足复杂的液滴操纵需求。上述问题严重制约了液滴操纵表面的工业化生产的需求和现实的商业需要。显然,迫切需要寻求一种设计思想独特、制备流程简单、加工精度高的液滴操纵表面。


技术实现思路

1、针对现有技术中存在的技术问题,本申请提出了一种用于液滴操纵的仿生表面,能够解决至少一种技术问题。

2、本申请提出的超疏水仿生表面包括:铜基底、微米级尺度的乳突阵列和预设形状的凹坑,其中,所述乳突阵列位于所述铜基底的上表面,所述预设形状的凹坑位于所述微米级尺度的乳突阵列的预设区域。</p>

3、可选本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于液滴操纵的仿生表面,其特征在于,包括:铜基底、微米级尺度的乳突阵列和预设形状的凹坑,其中,所述乳突阵列位于所述铜基底的上表面,所述预设形状的凹坑位于所述微米级尺度的乳突阵列的预设区域。

2.根据权利要求1所述的一种用于液滴操纵的仿生表面,其特征在于,预设形状包括圆形和线形,圆形凹坑的直径范围为0.5-1.1mm,线形凹坑的宽度范围为0.1-0.8mm。

3.根据权利要求1所述的一种用于液滴操纵的仿生表面,其特征在于,预设区域的形状和预设形状相同。

4.根据权利要求2所述的一种用于液滴操纵的仿生表面,其特征在于,圆形凹坑的直径为0.5mm,线...

【技术特征摘要】

1.一种用于液滴操纵的仿生表面,其特征在于,包括:铜基底、微米级尺度的乳突阵列和预设形状的凹坑,其中,所述乳突阵列位于所述铜基底的上表面,所述预设形状的凹坑位于所述微米级尺度的乳突阵列的预设区域。

2.根据权利要求1所述的一种用于液滴操纵的仿生表面,其特征在于,预设形状包括圆形和线形,圆形凹坑的直径范围为0.5-1.1mm,线形凹坑的宽度范围为0.1-0.8mm。<...

【专利技术属性】
技术研发人员:高涵鹏赵方义
申请(专利权)人:燕山大学
类型:新型
国别省市:

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