构建3D功能性光学材料堆叠结构的方法技术

技术编号:41472272 阅读:25 留言:0更新日期:2024-05-30 14:25
本文实施方式描述一种亚微米3D光学材料结构及用于形成该亚微米3D光学材料结构的方法。在第一实施方式中,提供一种在无需平坦化的情况下在基板上形成亚微米3D光学材料结构的方法。该方法包括在基板上沉积待被图案化的材料堆叠,在材料堆叠的一部分上沉积并图案化厚掩模材料,将该材料堆叠向下蚀刻一个水平,修整厚掩模材料的侧面部分,将该材料堆叠再向下蚀刻一个水平,重复修整和蚀刻步骤“n”次以上,及从材料堆叠上剥离厚掩模材料。

【技术实现步骤摘要】

本案实施方式大体关于用于形成3d光学可堆叠结构的工艺。


技术介绍

1、3d光学结构用以产生复杂的光学元件。例如,3d光学结构可用以利用光生成3d全息图。然而,3d光学装置的品质高度依赖与用于3d光学装置的可堆叠层结构上的3d图案的密度的增大和尺寸的减少。创建常规3d光学结构涉及在基板上方使用抗蚀剂形成三维(3d)可图案化和可堆叠层结构。基板具有沉积在其上的第一层材料,且针对该第一层图案化抗蚀剂。随后,在利用化学机械抛光器平坦化之前,用金属先充填该结构。针对每一层不断重复这些操作,以在结构中产生多个不同垂直高度。然而,当前结构仍产出大于微米尺度的结构,这导致对于诸如全息图的一些3d光学应用的不期望的分辨率。

2、尽管理解了多图案化在分辨率、聚焦深度,及光刻缺陷敏感度方面的问题及益处,但额外希望控制工艺预算并增大和维持良率。此外,此种结构不易创建,因为(多个)后续材料水平的施加可能溶解或破坏先前图案化的材料。

3、因此,需要用于在基板上产生高密度3d多图案化结构的改良方法。


技术实现思路</b>

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光学装置,包括:

2.根据权利要求1所述的光学装置,其中所述多个台阶包含至少三个台阶。

3.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个台阶和所述第一侧壁之间的距离小于1微米。

4.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个台阶具有在1纳米和1微米之间的高度。

5.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个台阶具有在1纳米和1微米之间的厚度。

6.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个台阶从邻接的台阶延伸在1纳米至1微米之间的距离。

7.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个台阶具有相等的深度。

8.根据权利要...

【技术特征摘要】

1.一种光学装置,包括:

2.根据权利要求1所述的光学装置,其中所述多个台阶包含至少三个台阶。

3.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个台阶和所述第一侧壁之间的距离小于1微米。

4.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个台阶具有在1纳米和1微米之间的高度。

5.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个台阶具有在1纳米和1微米之间的厚度。

6.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个台阶从邻接的台阶延伸在1纳米至1微米之间的距离。

7.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个台阶具有相等的深度。

8.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个台阶具有相等的宽度。

9.根据权利要求1所述的光学装置,其中至少一个台阶具有不同的宽度。

10.根据权利要求1所述的光学装置,其中每个光学结构是菲涅耳透镜。

11.一种...

【专利技术属性】
技术研发人员:迈克尔·于泰克·扬卢多维克·戈代罗伯特·简·维瑟拿玛·阿加曼克里斯托弗·丹尼斯·本彻韦恩·麦克米兰
申请(专利权)人:应用材料公司
类型:发明
国别省市:

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